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4億美元太貴!臺積電仍拒絕購買ASML的High-NA EUV設(shè)備
- 目前,生產(chǎn)尖端半導(dǎo)體必不可少的EUV(極紫外)光刻設(shè)備由荷蘭ASML獨家供應(yīng),而臺積電2nm工藝就是利用現(xiàn)有的EUV設(shè)備實現(xiàn)晶圓的大規(guī)模量產(chǎn),并保持較高的良率。但隨著推進到更先進的次2nm節(jié)點 —— 即1.4nm與1nm(分別代號A14與A10)—— 制造工藝將面臨更多技術(shù)瓶頸。理論上,這些問題可以通過采購ASML的最先進High-NA EUV設(shè)備來解決,但最新消息稱臺積電選擇的方向并非購買新設(shè)備,而是轉(zhuǎn)向使用光掩模薄膜(Photomask Pellicles)。什么是High-NA光刻機?從早期的深紫外
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ASML警告中國銷量下降或加劇26年增長擔(dān)憂
- 荷蘭半導(dǎo)體設(shè)備巨頭、芯片制造光刻機的主要供應(yīng)商 ASML Holding NV 于 2025 年 10 月 15 日發(fā)布了 2025 年第三季度財報。結(jié)果顯示,在人工智能需求的推動下,訂單量強勁,但也對 2026 年對中國的銷售額將大幅下降發(fā)出了嚴(yán)厲警告。雖然該公司試圖向投資者保證整體增長將保持穩(wěn)定,但這一消息凸顯了芯片行業(yè)不斷升級的地緣政治緊張局勢。以下是主要亮點的細(xì)分。財務(wù)業(yè)績ASML 公布了穩(wěn)健的第三季度業(yè)績,盡管凈利潤持平,但預(yù)訂量超出預(yù)期:凈銷售額:77 億歐元,同比增長 8%,但略低于分析師預(yù)
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三星購買了兩款A(yù)SML高數(shù)值孔值EUV工具
- 據(jù)《韓國經(jīng)濟日報》報道,據(jù)報道,三星將于今年晚些時候收到其首款高數(shù)值孔徑 (high-NA) EUV 掃描儀——Twinscan EXE:5200B,隨后將于 2026 年上半年推出第二臺掃描儀。報告補充說,雖然該公司已經(jīng)在其華城市園區(qū)運營了一種研究用途的高 NA EUV 工具,但新系統(tǒng)將標(biāo)志著其首次旨在大規(guī)模生產(chǎn)的收購。報告指出,競爭對手臺積電目前正在測試該系統(tǒng)的研發(fā)版本,但尚未將其部署用于商業(yè)規(guī)模制造。報道援引消息人士的話稱,SK海力士在9月份證實已經(jīng)訂購了生產(chǎn)級高NA EUV系統(tǒng)。據(jù)報道援引消息人士
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ASML警告明年來自中國的需求可能大幅下滑
- 荷蘭半導(dǎo)體設(shè)備制造商ASML第三季訂單表現(xiàn)優(yōu)于分析師預(yù)期,并表示明年銷售額將至少與2025年持平,主要受惠于全球企業(yè)大規(guī)模投資AI領(lǐng)域、對芯片制造設(shè)備的需求。同時,ASML也警告說,明年來自中國的需求可能大幅下滑。ASML發(fā)布了2025年第三季度財報,財報顯示第三季度實現(xiàn)凈銷售額75億歐元,凈利潤21億歐元,毛利率為51.6%,整體表現(xiàn)符合此前預(yù)期。更值得關(guān)注的是,本季度新增訂單金額達(dá)到54億歐元,其中EUV(極紫外光刻)訂單高達(dá)36億歐元,占比超過三分之二,充分反映出全球半導(dǎo)體制造商對先進制程光刻設(shè)備的
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ASML發(fā)布2025年第三季度財報
- 阿斯麥(ASML)近日發(fā)布2025年第三季度財報。2025年第三季度,ASML實現(xiàn)凈銷售額75億歐元,毛利率為51.6%,凈利潤達(dá)21億歐元。第三季度的新增訂單金額為54億歐元2,其中36億歐元為EUV光刻機訂單。ASML預(yù)計2025年第四季度凈銷售額在92億至98億歐元之間,毛利率介于51%至53%;預(yù)計2025年全年凈銷售額將同比增長約15%,毛利率約為52%。此外,ASML預(yù)計2026年凈銷售額將不低于2025年水平。(除非特別說明,數(shù)字均以百萬歐元為單位)2025年第二季度2025年第三季度凈銷售
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ASML任命新任首席技術(shù)官
- ●? ?畢慕科(Marco Pieters)被任命為?ASML?首席技術(shù)官●? ?ASML監(jiān)事會計劃在2026年4月年度股東大會時再次任命戴厚杰(Roger Dassen)為首席財務(wù)官以及樊徳睿(Frédéric Schneider-Maunoury)為首席運營官,并任命首席技術(shù)官畢慕科(Marco Pieters)為管理委員會成員。ASML新任首席技術(shù)官畢慕科(Marco Pieters)ASML近日宣布任命畢慕科(Marco Pieters)
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美眾議院“中美戰(zhàn)略競爭特別委員會”發(fā)布涉華半導(dǎo)體關(guān)鍵設(shè)備出口調(diào)查報告
- 根據(jù)SEMI和SEAJ的數(shù)據(jù),2025年第二季度全球半導(dǎo)體制造設(shè)備支出總計330.7億美元,2025年第二季度的支出較2024年第二季度增長23%。其中,中國大陸的支出最高,為113.6億美元,占總支出的34%。值得注意的是,中國大陸2025年第二季度的支出較2024年第二季度下降了7%。10月7日,美國眾議院“中美戰(zhàn)略競爭特別委員會”兩黨議員在經(jīng)過數(shù)月的調(diào)查之后發(fā)現(xiàn),包括荷蘭的阿斯麥(ASML)、日本的東京電子(TEL)以及美國的應(yīng)用材料公司(Applied Materials)、科磊(KLA)和泛林集
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ASML的設(shè)備是制造AI芯片的關(guān)鍵,但為什么它錯過了AI紅利
- ASML 是一家荷蘭巨頭,幾乎壟斷了先進人工智能芯片所必需的極紫外 (EUV) 光刻機,它處于有利地位,可以利用數(shù)據(jù)中心的激增。然而,由于 2026 年增長不確定的警告,其股價在過去一年中僅上漲了 11%,表現(xiàn)落后于同行。核心問題:依賴少數(shù)主要客戶,其中以控制先進芯片生產(chǎn)的臺積電(臺積電)為主。ASML 依靠芯片制造商之間的競爭而蓬勃發(fā)展,這些競爭刺激了設(shè)備升級,但臺積電的領(lǐng)先優(yōu)勢扼殺了這種動力。ASML 的最新創(chuàng)新高數(shù)值孔徑 (High NA) EUV 機器每臺成本超過 4 億美元,承諾為更小、更高效的
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ASML 和 SK hynix 在韓國的工廠組裝了業(yè)界首個“商用”High NA EUV 系統(tǒng)
- ASML 的 Twinscan EXE:5200N 配備 0.55 NA 鏡頭,實現(xiàn) 8 納米分辨率——而當(dāng)前 Low-NA EUV 工具的分辨率僅為 13 納米——使得單次曝光下晶體管尺寸縮小 1.7 倍,晶體管密度提高 2.9 倍。雖然 Low-NA 工具可以通過昂貴的多重圖形匹配來達(dá)到這一效果,但 High-NA EUV 簡化了光刻步驟,盡管這帶來了新的技術(shù)挑戰(zhàn)。鑒于 High-NA EUV 機器的能力,芯片制造商可以避免雙重或三重 EUV 圖形匹配,因此 NXE:5200B 將首先用于快速推進下一
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美國對ASML設(shè)備免征15%的關(guān)稅
- 近日,荷蘭半導(dǎo)體設(shè)備制造商ASML宣布,其新一代高數(shù)值孔徑EUV光刻機EXE:5200已正式出貨,標(biāo)志著該技術(shù)已準(zhǔn)備好投入批量生產(chǎn)。根據(jù)最新報道,美國與歐盟委員會主席簽署的貿(mào)易協(xié)定中,對進入美國的歐洲制造商品征收15%的關(guān)稅,但半導(dǎo)體制造設(shè)備等特定商品在零關(guān)稅安排下可享受豁免。這意味著ASML的設(shè)備在美國市場不會因關(guān)稅上漲而增加成本。報告指出,若對ASML設(shè)備征收15%的關(guān)稅,每臺DUV系統(tǒng)的成本將增加約1300萬美元,每臺EUV設(shè)備的成本將增加高達(dá)4000萬美元,這將大幅增加英特爾、三星和臺積電等企業(yè)的
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歐盟晶圓廠設(shè)備制造商在歐盟-美國關(guān)稅協(xié)議中獲得暫緩——阿斯麥等公司將被免征15%關(guān)稅
- (圖片來源:ASML)美國總統(tǒng)和歐洲委員會主席本周早些時候簽署的貿(mào)易協(xié)議對幾乎所有在歐洲制造并運往美國的商品征收 15%的關(guān)稅,但有幾類產(chǎn)品將免稅,包括半導(dǎo)體生產(chǎn)設(shè)備,這些設(shè)備將享受零關(guān)稅。因此,像 ASML 這樣的公司生產(chǎn)的工具在美國不會變得更貴。歐洲委員會的一份聲明稱:“我們還就一些戰(zhàn)略產(chǎn)品達(dá)成了零關(guān)稅的協(xié)議。” 聲明中寫道?!斑@包括所有飛機及其零部件、某些化學(xué)品、某些通用藥品、半導(dǎo)體設(shè)備、某些農(nóng)產(chǎn)品、自然資源和關(guān)鍵原材料。我們將繼續(xù)努力將更多產(chǎn)品添加到這個清單中。”如果美國對 ASML 生
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ASML 警告 2026 年增長停滯,地緣政治風(fēng)險威脅十年發(fā)展
- 根據(jù)路透社報道,ASML 今日發(fā)布了其 2025 年第二季度的財務(wù)業(yè)績。雖然第二季度訂單量超出了市場預(yù)期,但該公司警告稱,2026 年的增長可能將達(dá)不到預(yù)期。如其 新聞稿所述,ASML 指出,雖然人工智能客戶的基本面在進入 2026 年時保持強勁,但宏觀經(jīng)濟和地緣政治因素的上升不確定性使得目前難以確認(rèn) 2026 年的增長。如果這種情況發(fā)生,2026年將成為自2012年以來首次沒有收入增長的一年——路透社指出,打破了不間斷增長的記錄。同時,ASML 表示,現(xiàn)在預(yù)計 2025 年全年凈銷售
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ASML發(fā)布2025年第二季度財報
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ASML研發(fā)5納米分辨率Hyper NA光刻機
- 據(jù)外媒報道,ASML正與蔡司(Carl Zeiss)合作,啟動研發(fā)分辨率可達(dá)5納米的Hyper NA光刻機設(shè)備。ASML技術(shù)執(zhí)行副總裁Jos Benschop表示,這種新型光刻機將滿足2035年及之后的芯片制造需求。目前,ASML剛剛開始出貨最先進的光刻機,其單次曝光分辨率可達(dá)8納米,相比舊款設(shè)備需要多次曝光才能實現(xiàn)類似效果。Benschop還提到,ASML正與蔡司進行設(shè)計研究,目標(biāo)是開發(fā)數(shù)值孔徑(NA)達(dá)到0.7或更高的系統(tǒng)。數(shù)值孔徑是衡量光學(xué)系統(tǒng)聚焦能力的重要指標(biāo),直接影響光刻分辨率。NA越高,光波長
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ASML杯光刻「芯 」勢力知識挑戰(zhàn)賽正式啟動
- 這是一場追光人的技術(shù)狂歡也是一次深入納米芯球的探索之旅我們發(fā)出光刻英雄帖,集結(jié)菁英光刻「芯」勢力與ASML共尋技術(shù)之美【賽事介紹】ASML光刻「芯」勢力知識挑戰(zhàn)賽由全球半導(dǎo)體行業(yè)領(lǐng)先供應(yīng)商ASML發(fā)起,是一項面向中國半導(dǎo)體人才與科技愛好者的科普賽事。依托ASML在光刻領(lǐng)域的技術(shù)積累與行業(yè)洞察,賽事致力于為參賽者打造一個深度探索光刻技術(shù)的知識競技窗口,同時培養(yǎng)優(yōu)秀科技「芯」勢力,共同推動摩爾定律演進。本次挑戰(zhàn)賽聚焦光刻技術(shù)教育普及,通過涵蓋光學(xué)、物理學(xué)知識的專業(yè)試題帶領(lǐng)參賽者深入了解光刻機、計算光刻、量測等
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