日本a√视频在线,久久青青亚洲国产,亚洲一区欧美二区,免费g片在线观看网站

        <style id="k3y6c"><u id="k3y6c"></u></style>
        

        <s id="k3y6c"></s>
        <mark id="k3y6c"></mark>
          

          <mark id="k3y6c"></mark>
          


          
	
  	
          
	
          
		首頁　 
		資訊　 
		商機 　
		下載　 
		拆解 　
		高校　 
		招聘 　
		雜志　 
		會展　 
		EETV　 
		百科 　
		問答　 
		電路圖　 
		工程師手冊 　
		Datasheet　
		100例 　
		活動中心　 
		E周刊閱讀 　
		樣片申請
	
          




          
	EEPW首頁 >> 
	主題列表 >> 
	asml
          

          
	
          
    	
          
    	  	
          
              	
          
                	
          asml 文章
                  最新資訊  
                  
          
                
          
                                
          
                  

                                
          
                    
          ASML：中國廠商生產(chǎn)成熟制程芯片就行，世界需要
          
                                                            
            
                    	
          • 全球對成熟制程芯片的需求正在急劇上升，但西方芯片制造商對該領域的投資不夠。
            • 
                    	                        
          • 關鍵字：
                        ASML                          
            • 
                   	
          
                    
          
                
          
                                
          
                    
          不賣7nm等先進光刻機！ASML：中國廠商生產(chǎn)“落后”制程芯片就行 世界需要
          
                                                            
            
                    	
          • 7月9日消息，據(jù)外媒報道稱，由于種種因素，ASML絕不能賣給中國廠商最先進的光刻機，但該公司CEO卻表示，世界需要中國生產(chǎn)的"傳統(tǒng)芯片"。ASML的CEO Christophe Fouquet接受采訪時表示，全球芯片買家，包括德國汽車工業(yè)在內(nèi)，都迫切需要中國芯片制造商目前正大力投資的舊一代電腦芯片。根據(jù)行業(yè)組織SEMI的估計，中國芯片制造商將在2025年將產(chǎn)能增加14%，是全球其他地區(qū)的兩倍以上，到2025年將達到每月1010萬片晶圓，占全球總產(chǎn)量的大約三分之一。"全球對這類
            • 
                    	                        
          • 關鍵字：
                        7nm  刻機  ASML  制程芯片                          
            • 
                   	
          
                    
          
                
          
                                
          
                    
          ASML前總裁稱"意識形態(tài)而非事實"助長中美芯片戰(zhàn)爭
          
                                                            
            
                    	
          • 荷蘭半導體設備巨頭 ASML 
為所有主要企業(yè)提供尖端光刻技術。該公司最近離職的首席執(zhí)行官剛剛分享了他對這一復雜地緣政治格局的見解。彼得-溫尼克（Peter 
Wennink）最近在接受荷蘭 BNR 電臺采訪時，對美國針對中國芯片產(chǎn)業(yè)的貿(mào)易限制毫不諱言。在執(zhí)掌 ASML 
十年之后于今年四月卸任的溫尼克聲稱，這類討論不是基于事實、內(nèi)容、數(shù)字或數(shù)據(jù)，而是基于意識形態(tài)。在溫尼克的領導下，ASML 逐漸成為歐洲最大的科技公司。隨著中國政府加倍努力實現(xiàn)半導體自給自足，中國成為繼臺灣之后 ASML 的第二大市
            • 
                    	                        
          • 關鍵字：
                        ASML  芯片                          
            • 
                   	
          
                    
          
                
          
                                
          
                    
          EUV 的單次曝光與多次曝光的進步
          
                                                            
            
                    	
          • 在過去的五年中，EUV 模式設計取得了長足的進步，但高 NA EUV 又重現(xiàn)了舊的挑戰(zhàn)。
            • 
                    	                        
          • 關鍵字：
                        EUV  ASML                          
            • 
                   	
          
                    
          
                
          
                                
          
                    
          ASML或將Hyper-NA EUV光刻機定價翻倍，讓臺積電、三星和英特爾猶豫不決
          
                                                            
            
                    	
          • ASML去年末向英特爾交付了業(yè)界首臺High-NA 
EUV光刻機，業(yè)界準備從EUV邁入High-NA EUV時代。不過ASML已經(jīng)開始對下一代Hyper-NA 
EUV技術進行研究，尋找合適的解決方案，計劃在2030年左右提供新一代Hyper-NA EUV光刻機。據(jù)Trendforce報道，Hyper-NA
 EUV光刻機的價格預計達到驚人的7.24億美元，甚至可能會更高。目前每臺EUV光刻機的價格約為1.81億美元，High-NA 
EUV光刻機的價格大概為3.8億美元，是EUV光刻機的兩倍多
            • 
                    	                        
          • 關鍵字：
                        ASML  Hyper-NA EUV  光刻機  臺積電  三星  英特爾                          
            • 
                   	
          
                    
          
                
          
                                
          
                    
          臺積電EUV大舉拉貨 供應鏈集體狂歡
          
                                                            
            
                    	
          • 臺積電2納米先進制程產(chǎn)能將于2025年量產(chǎn)，設備廠正如火如荼交機，尤以先進制程所用之EUV（極紫外光曝光機）至為關鍵，今明兩年共將交付超過60臺EUV，總投資金額上看超過4,000億元。在產(chǎn)能持續(xù)擴充之下，ASML2025年交付數(shù)量成長將超過3成，臺廠供應鏈沾光，其中家登積極與ASML攜手投入次世代High-NA EUV研發(fā)，另外帆宣、意德士、公準、京鼎及翔名等有望同步受惠。 設備業(yè)者透露，EUV機臺供應吃緊，交期長達16至20個月，因此2024年訂單大部分會于后年開始交付；據(jù)法人估計，今年臺積電EUV訂
            • 
                    	                        
          • 關鍵字：
                        2納米  先進制程  ASML  EUV  臺積電                          
            • 
                   	
          
                    
          
                
          
                                
          
                    
          ASML市值超車LVMH，成為歐洲第二大上市公司
          
                                                            
            
                    	
          • 最新 EUV 設備的銷售情況對 ASML 的市值產(chǎn)生了明顯影響。
            • 
                    	                        
          • 關鍵字：
                        EUV  ASML                          
            • 
                   	
          
                    
          
                
          
                                
          
                    
          三井化學將量產(chǎn)光刻薄膜新品，支持ASML下一代光刻機
          
                                                            
            
                    	
          • 日前，日本三井化學宣布將在其巖國大竹工廠設立碳納米管 (CNT) 薄膜生產(chǎn)線，開始量產(chǎn)半導體最尖端光刻機的零部件產(chǎn)品（保護半導體電路原版的薄膜材料“Pellicle”的新一代產(chǎn)品）。據(jù)悉，此種CNT薄膜可以實現(xiàn)92%以上的高EUV透射率和超過1kW曝光輸出功率的光阻能力。三井化學預期年產(chǎn)能力為5000張，生產(chǎn)線預計于2025年12月完工，可為ASML將推出的下一代高數(shù)值孔徑、高輸出EUV光刻機提供支持。
            • 
                    	                        
          • 關鍵字：
                        光刻機  納米管薄膜  ASML                          
            • 
                   	
          
                    
          
                
          
                                
          
                    
          可量產(chǎn)0.2nm工藝！ASML公布Hyper NA EUV光刻機：死胡同不遠了
          
                                                            
            
                    	
          • 6月16日消息，ASML去年底向Intel交付了全球第一臺High NA EUV極紫外光刻機，同時正在研究更強大的Hyper NA EUV光刻機，預計可將半導體工藝推進到0.2nm左右，也就是2埃米。ASML第一代Low NA EUV光刻機孔徑數(shù)值只有0.33，對應產(chǎn)品命名NXE系列，包括已有的3400B/C、3600D、3800E，以及未來的4000F、4200G、4X00。該系列預計到2025年可以量產(chǎn)2nm，再往后就得加入多重曝光，預計到2027年能實現(xiàn)1.4nm的量產(chǎn)。High NA光刻機升級到了
            • 
                    	                        
          • 關鍵字：
                        ASML  光刻機  高NA EUV  0.2nm                          
            • 
                   	
          
                    
          
                
          
                                
          
                    
          光刻機巨頭 ASML 聯(lián)合創(chuàng)始人維姆?特魯斯特逝世，享年 98 歲
          
                                                            
            
                    	
          • IT之家 6 月 12 日消息，光刻機巨頭 ASML 公司 6 月 11 日在社交媒體發(fā)文，悼念 ASML 創(chuàng)始人之一維姆?特魯斯特（Wim Troost）離世。另據(jù)《埃因霍溫日報》，Wim 于上周五（6 月 8 日）上午逝世，享年 98 歲。ASML 稱，“Wim Troost 去世了。Wim 是我們的創(chuàng)始元老之一，也是 1987 年至 1990 年期間的 CEO，那時 ASML 正努力爭取其第一個客戶。退休后，Wim 一直是 ASML 和高科技產(chǎn)業(yè)的真正大使。他激勵了一代又一代的后人。我們感
            • 
                    	                        
          • 關鍵字：
                        ASML  維姆?特魯斯特                          
            • 
                   	
          
                    
          
                
          
                                
          
                    
          美國芯片管控引ASML吐槽：倒逼中國廠商造出更先進光刻機
          
                                                            
            
                    	
          • 快科技6月7日消息，近日，ASML公司CEO公開表示，美國嚴厲的芯片管控規(guī)定，只會倒逼中國廠商進步更快。ASML CEO表示，多年來，公司都不用擔心設備的去向會受到政治限制，但突然之間，這卻變成了全世界最重要的話題之一。過去一段時間，美國一直在向荷蘭施壓，以阻止中國獲得關鍵的半導體技術。去年，荷蘭政府宣布了新的半導體設備出口管制措施，主要針對先進制程的芯片制造技術，阿斯麥首當其沖。根據(jù)ASML今年1月1日發(fā)布的聲明，荷蘭政府撤銷的是2023年頒發(fā)的NXT:2050i和NXT:2100i光刻系統(tǒng)的出口許可證
            • 
                    	                        
          • 關鍵字：
                        美國芯片管控  ASML  光刻機                          
            • 
                   	
          
                    
          
                
          
                                
          
                    
          ASML：EUV光刻機已近極限 追趕技術還是另辟蹊徑？
          
                                                            
            
                    	
          • ASML首席財務官達森（Roger Dassen）表示，EUV技術路線發(fā)展受歐美限制，且光刻機已接近技術極限，此一技術路線前景不明。積極尋求突破的中國廠商是持續(xù)投入資源突破現(xiàn)有限制進行技術跟隨？還是將資源另辟蹊徑尋找新的技術路徑？將面臨艱難的抉擇。 據(jù)《芯智訊》報導，臺積電已經(jīng)訂購了High NA EUV（高數(shù)值孔徑極紫外光）光刻機，ASML與臺積電的商業(yè)談判即將結束，預計在第2季度或第3季度開始獲得大量 2nm芯片制造相關設備訂單。ASML預測其設備的市場需求有望一路走強至2026年，這主要是受益于各國
            • 
                    	                        
          • 關鍵字：
                        ASML  EUV  光刻機                          
            • 
                   	
          
                    
          
                
          
                                
          
                    
          臺積電今年將拿到最新款光刻機
          
                                                            
            
                    	
          • 6月6日消息，據(jù)外媒報道稱，ASML將在今年向臺積電交付旗下最先進的光刻機，單臺造價達3.8億美元。報道中提到，ASML首席財務官Roger Dassen在最近的一次電話會議上告訴分析師，公司兩大客戶臺積電和英特爾將在今年年底前獲得所謂的高數(shù)值孔徑（高NA）極紫外（EUV）光刻系統(tǒng)。英特爾此前已經(jīng)訂購了最新的高NA EUV設備，第一臺設備已于12月底運往俄勒岡州的一家工廠。目前尚不清楚ASML最大的EUV客戶臺積電何時會收到設備。據(jù)悉，這些機器每臺造價3.5億歐元（3.8億美元），重量相當于兩架空中客車A
            • 
                    	                        
          • 關鍵字：
                        ASML  光刻機  高NA EUV                          
            • 
                   	
          
                    
          
                
          
                                
          
                    
          ASML今年將向臺積電交付最新款光刻機 單價3.8億美元
          
                                                            
            
                    	
          • 6月6日消息，荷蘭光刻機制造商ASML今年將向臺積電交付其最新款光刻機。據(jù)公司發(fā)言人莫尼克·莫爾斯（Monique Mols）透露，首席財務官羅杰·達森（Roger Dassen）在近期的分析師電話會議中表示，包括臺積電和英特爾在內(nèi)的ASML兩大客戶都將在今年年底前拿到高數(shù)值孔徑極紫外線（high-NA EUV）光刻機。英特爾已經(jīng)下單購買了這款最新的光刻機，并于去年12月底將第一臺機器運至其位于俄勒岡州的工廠。目前尚不清楚臺積電何時會收到這些設備。臺積電代表表示，公司一直與供應商保持密切合作，但拒絕對此事
            • 
                    	                        
          • 關鍵字：
                        ASML  臺積電  光刻機  英特爾  半導體                          
            • 
                   	
          
                    
          
                
          
                                
          
                    
          ASML和IMEC啟用聯(lián)合High-NA EUV光刻實驗室
          
                                                            
            
                    	
          • 自ASML官網(wǎng)獲悉，6月3日，比利時微電子研究中心（imec）與阿斯麥（ASML）宣布在荷蘭費爾德霍芬（Veldhoven）開設聯(lián)合High-NA EUV光刻實驗室（High NA EUV Lithography Lab），由ASML和imec共同運營。聲明中稱，經(jīng)過多年的構建和集成，該實驗室已準備好為領先的邏輯和存儲芯片制造商以及先進材料和設備供應商提供第一臺原型高數(shù)值孔徑EUV掃描儀（TWINSCAN EXE：5000）以及周圍的處理和計量工具。據(jù)悉，該聯(lián)合實驗室的開放是High-NA EUV大批量生
            • 
                    	                        
          • 關鍵字：
                        阿斯麥  ASML  EUV                          
            • 
                   	
          
                    
          
                
          
                                                

                
          
	                
          
		                	
          
	
          
	共295條
	5/20		|‹
			«
																																				3																4																5																6																7																8																9																10																11																12																																																																																															»
			›|
		
	
          
		                
          
	               	
          
                
          
        	
          
            
          
        
          
	
          
	
	
          

          

          
        		關于我們 - 
        		廣告服務 - 
        		企業(yè)會員服務 - 
        		網(wǎng)站地圖 - 
        		聯(lián)系我們 - 
        		征稿 - 
        		友情鏈接 - 
        		手機EEPW
        		
          
        		Copyright ?2000-2015 ELECTRONIC ENGINEERING & PRODUCT WORLD. All rights reserved.
          
        		《電子產(chǎn)品世界》雜志社 版權所有 北京東曉國際技術信息咨詢有限公司
          
      			備案 京ICP備12027778號-2 北京市公安局備案：1101082052    京公網(wǎng)安備11010802012473