荷商艾司摩爾（ASML）是半導(dǎo)體設(shè)備巨頭，臺積電等龍頭公司制造先進芯片，都需采用ASML制造商生產(chǎn)的昂貴極紫外光曝光機（EUV），根據(jù)《Tom's Hardware》報導(dǎo)，日本科學(xué)家已開發(fā)出簡化的EUV掃描儀，可以大幅降低芯片的生產(chǎn)成本。

報導(dǎo)指出，沖繩科學(xué)技術(shù)學(xué)院（OIST）Tsumoru Shintake教授提出一種全新、大幅簡化的EUV曝光機，相比ASML開發(fā)和制造的工具更便宜，如果該種設(shè)備大規(guī)模量產(chǎn)，可能重塑芯片制造設(shè)備產(chǎn)業(yè)的現(xiàn)況。

值得關(guān)注的是，新系統(tǒng)在光學(xué)投影設(shè)定中只使用兩面鏡子，與傳統(tǒng)的六鏡配置有很大不同，這種光學(xué)系統(tǒng)的挑戰(zhàn)在于，它得將這些反射鏡沿直線對齊，以確保系統(tǒng)保持較高的光學(xué)性能。

報導(dǎo)稱，這種新的光路允許超過10%的初始EUV能量到達晶圓，而標(biāo)準設(shè)置中的能量約為1%，這個改進是重大突破。而這種EUV微影工具的優(yōu)點，在于提高可靠性并降低了維護復(fù)雜性，以及功耗大幅降低。