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          全球半導體廠先進制程布局進度

          作者: 時間:2013-03-12 來源:DIGITIMES 收藏

            半導體廠先進制程布局在28奈米階段被炒熱,主要是受惠通訊晶片對于省電、高效能的要求,使得28奈米需求旺盛。2012年僅有產能,但仍無法滿足大客戶需求,到2013年初,28奈米制程的產能已擴增倍數(shù),目前單月產能約7萬片12寸晶圓。

          本文引用地址:http://yuyingmama.com.cn/article/142958.htm

            28奈米產能開出之際,同業(yè)也積極拉升28奈米良率,以卡位第二供應商策略進入戰(zhàn)場,日前GlobalFoundries的良率大幅提升,已搶下高通(Qualcomm)、聯(lián)發(fā)科等訂單。

            在28奈米制程以下是20奈米制程,但部分客戶轉進意愿不高,因為20奈米制程技術仍是停留在平面式電晶體的設計,成本下降速度不及增加的投資金額,因此寧愿暫時以28奈米為主,之后在轉進3D架構電晶體FinFET技術。

            FinFET技術最早是英特爾(Intel)在22奈米制程導入,未來14奈米也會延續(xù),臺積電計劃在16奈米制程導入FinFET技術、GlobalFoundries在14奈米制程導入、三星電子則預計從14奈米導入FinFET技術,聯(lián)電的FinFET技術從計劃從20奈米切入,會與IBM合作加速其進度。



          關鍵詞: 臺積電 28nm

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