光刻機(jī) 文章 最新資訊
三星據(jù)報(bào)道首次外包光掩模，著眼于新的 EUV 光掩模技術(shù)
- 根據(jù) The Elec 報(bào)道，援引行業(yè)消息人士稱，三星首次外包光掩?！酒圃熘兄陵P(guān)重要的組件。報(bào)道稱，三星據(jù)說正在外包低端光掩模用于內(nèi)存芯片，這表明其策略是將資源轉(zhuǎn)向 ArF 和 EUV 掩模生產(chǎn)。本月早些時(shí)候，三星據(jù)報(bào)道向美國(guó)光掩模制造商 Photronics 的子公司 PKL 訂購(gòu)了用于內(nèi)存生產(chǎn)的 i-line 和 KrF 光掩模。報(bào)道補(bǔ)充說，日本的 Tekscend Photomask 也在評(píng)估中，預(yù)計(jì)很快將收到訂單。報(bào)道指出，由于這些是低端芯片的掩模，三星認(rèn)為它們泄露技術(shù)的
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中芯國(guó)際據(jù)報(bào)測(cè)試國(guó)產(chǎn)深紫外（DUV）光刻設(shè)備，來自 SiCarrier 子公司， amid AI 芯片推動(dòng)
- 隨著中國(guó)通過增加國(guó)內(nèi) AI 芯片來對(duì)抗 NVIDIA 推動(dòng)半導(dǎo)體獨(dú)立，據(jù)報(bào)道，中國(guó)正朝著自力更生邁出另一大步，因?yàn)?SMIC 據(jù)報(bào)正在測(cè)試由本地初創(chuàng)公司 Yuliangsheng 開發(fā)的深紫外（DUV）光刻機(jī)。SiCarrier 通常以中國(guó)標(biāo)志性的山命名其設(shè)備，包括用于蝕刻機(jī)的武夷和用于外延產(chǎn)品的峨眉，TechPowerUp 報(bào)道。有趣的是，金融時(shí)報(bào)披露，這次最新的 EUV 計(jì)劃，據(jù)熟悉情況的人士稱，擁有雄心勃勃的內(nèi)部代號(hào)“珠穆朗瑪峰”。消息人士稱，SMIC 正在測(cè)試的機(jī)器使用與 ASML 系統(tǒng)類似的全浸
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ASML 和 SK hynix 在韓國(guó)的工廠組裝了業(yè)界首個(gè)“商用”High NA EUV 系統(tǒng)
- ASML 的 Twinscan EXE:5200N 配備 0.55 NA 鏡頭，實(shí)現(xiàn) 8 納米分辨率——而當(dāng)前 Low-NA EUV 工具的分辨率僅為 13 納米——使得單次曝光下晶體管尺寸縮小 1.7 倍，晶體管密度提高 2.9 倍。雖然 Low-NA 工具可以通過昂貴的多重圖形匹配來達(dá)到這一效果，但 High-NA EUV 簡(jiǎn)化了光刻步驟，盡管這帶來了新的技術(shù)挑戰(zhàn)。鑒于 High-NA EUV 機(jī)器的能力，芯片制造商可以避免雙重或三重 EUV 圖形匹配，因此 NXE:5200B 將首先用于快速推進(jìn)下一
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尼康宣布關(guān)閉橫濱工廠，精密設(shè)備業(yè)務(wù)疲軟
- 8 月 21 日， 尼康宣布計(jì)劃于 9 月 30 日關(guān)閉其橫濱工廠。據(jù)日經(jīng)報(bào)道，截至 7 月底，該設(shè)施雇傭了約 350 人。這些員工將留在公司，隨著工廠的運(yùn)營(yíng)轉(zhuǎn)移到東京品川的尼康總部以及神奈川縣的其他地點(diǎn)，他們將搬遷到接收站點(diǎn)。據(jù)日經(jīng)新聞補(bǔ)充，橫濱工廠一直從事生物顯微鏡、工業(yè)設(shè)備和平板顯示器（FPD）光刻設(shè)備的開發(fā)與制造。公司表示，該工廠的關(guān)閉已經(jīng)計(jì)入其截至2026年3財(cái)年的合并業(yè)績(jī)預(yù)測(cè)中，并指出總體影響將有限。據(jù)報(bào)告稱，尼康公司旨在通過整合設(shè)施來削減成本。尼康光刻業(yè)務(wù)：歷史作用與當(dāng)前衰退該工廠
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中國(guó)首臺(tái)商用電子束光刻機(jī)揭幕
- 8月13日，我國(guó)首臺(tái)自主研發(fā)的商用電子束光刻機(jī)“羲之”在浙江余杭正式揭幕。根據(jù)杭州政府網(wǎng)站的報(bào)道，這臺(tái)機(jī)器是浙江大學(xué)技術(shù)轉(zhuǎn)化基地簽署的第一個(gè)項(xiàng)目之一。它已經(jīng)在客戶現(xiàn)場(chǎng)進(jìn)行了測(cè)試，精度與主流國(guó)際設(shè)備相當(dāng)。這一里程碑標(biāo)志著量子芯片研發(fā)現(xiàn)在有了自己的“中國(guó)刻刀?！毖邪l(fā)團(tuán)隊(duì)的一名成員解釋說，西馳專注于量子芯片和下一代半導(dǎo)體研究的核心階段。它使用高能電子束在硅基板上“手繪”電路，實(shí)現(xiàn)0.6納米的精度和8納米的線寬。其設(shè)計(jì)可以靈活修改，無需掩模，就像用納米級(jí)的畫筆直接在芯片上繪畫一樣——特別適合芯片開發(fā)早期階段所需的
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歐盟晶圓廠設(shè)備制造商在歐盟-美國(guó)關(guān)稅協(xié)議中獲得暫緩——阿斯麥等公司將被免征15%關(guān)稅
- （圖片來源：ASML）美國(guó)總統(tǒng)和歐洲委員會(huì)主席本周早些時(shí)候簽署的貿(mào)易協(xié)議對(duì)幾乎所有在歐洲制造并運(yùn)往美國(guó)的商品征收 15%的關(guān)稅，但有幾類產(chǎn)品將免稅，包括半導(dǎo)體生產(chǎn)設(shè)備，這些設(shè)備將享受零關(guān)稅。因此，像 ASML 這樣的公司生產(chǎn)的工具在美國(guó)不會(huì)變得更貴。歐洲委員會(huì)的一份聲明稱：“我們還就一些戰(zhàn)略產(chǎn)品達(dá)成了零關(guān)稅的協(xié)議?！?nbsp;聲明中寫道?！斑@包括所有飛機(jī)及其零部件、某些化學(xué)品、某些通用藥品、半導(dǎo)體設(shè)備、某些農(nóng)產(chǎn)品、自然資源和關(guān)鍵原材料。我們將繼續(xù)努力將更多產(chǎn)品添加到這個(gè)清單中?！比绻绹?guó)對(duì) ASML 生
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ASML 警告 2026 年增長(zhǎng)停滯，地緣政治風(fēng)險(xiǎn)威脅十年發(fā)展
- 根據(jù)路透社報(bào)道，ASML 今日發(fā)布了其 2025 年第二季度的財(cái)務(wù)業(yè)績(jī)。雖然第二季度訂單量超出了市場(chǎng)預(yù)期，但該公司警告稱，2026 年的增長(zhǎng)可能將達(dá)不到預(yù)期。如其 新聞稿所述，ASML 指出，雖然人工智能客戶的基本面在進(jìn)入 2026 年時(shí)保持強(qiáng)勁，但宏觀經(jīng)濟(jì)和地緣政治因素的上升不確定性使得目前難以確認(rèn) 2026 年的增長(zhǎng)。如果這種情況發(fā)生，2026年將成為自2012年以來首次沒有收入增長(zhǎng)的一年——路透社指出，打破了不間斷增長(zhǎng)的記錄。同時(shí)，ASML 表示，現(xiàn)在預(yù)計(jì) 2025 年全年凈銷售
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美國(guó)、日本領(lǐng)導(dǎo)政府支持的光刻機(jī)(EUV)推廣，韓國(guó)據(jù)報(bào)道落后
- 根據(jù)韓國(guó)媒體 outlet ETNews 的報(bào)道，美國(guó)和日本正積極通過政府主導(dǎo)的舉措將極紫外(EUV)光刻機(jī)引入公共研究機(jī)構(gòu)。相比之下，韓國(guó)政府在這一領(lǐng)域的推動(dòng)工作落后于美國(guó)和日本，報(bào)道暗示。美國(guó) – 國(guó)家半導(dǎo)體技術(shù)中心加速 EUV 技術(shù)采用報(bào)告援引行業(yè)消息人士稱，美國(guó)國(guó)家半導(dǎo)體技術(shù)中心（NSTC）已在紐約的阿爾巴尼納米技術(shù)園區(qū)完成了 EUV 光刻設(shè)備的安裝，并計(jì)劃從 2025 年 7 月開始為企業(yè)提供服務(wù)。報(bào)告還指出，據(jù)稱 NSTC 計(jì)劃在 2026 年推出高 NA EUV 設(shè)備——
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ASML研發(fā)5納米分辨率Hyper NA光刻機(jī)
- 據(jù)外媒報(bào)道，ASML正與蔡司（Carl Zeiss）合作，啟動(dòng)研發(fā)分辨率可達(dá)5納米的Hyper NA光刻機(jī)設(shè)備。ASML技術(shù)執(zhí)行副總裁Jos Benschop表示，這種新型光刻機(jī)將滿足2035年及之后的芯片制造需求。目前，ASML剛剛開始出貨最先進(jìn)的光刻機(jī)，其單次曝光分辨率可達(dá)8納米，相比舊款設(shè)備需要多次曝光才能實(shí)現(xiàn)類似效果。Benschop還提到，ASML正與蔡司進(jìn)行設(shè)計(jì)研究，目標(biāo)是開發(fā)數(shù)值孔徑（NA）達(dá)到0.7或更高的系統(tǒng)。數(shù)值孔徑是衡量光學(xué)系統(tǒng)聚焦能力的重要指標(biāo)，直接影響光刻分辨率。NA越高，光波長(zhǎng)
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ASML計(jì)劃在荷蘭大規(guī)模擴(kuò)張，助力EUV設(shè)備交付
- 據(jù)荷蘭媒體報(bào)道，ASML計(jì)劃在2028年前將其員工遷入位于荷蘭埃因霍溫附近的全新Brainport產(chǎn)業(yè)園區(qū)。這一消息是在ASML與埃因霍溫市政府官員共同介紹城市發(fā)展計(jì)劃初步草案時(shí)透露的。這一擴(kuò)張計(jì)劃引發(fā)了全球晶圓制造行業(yè)的廣泛關(guān)注。據(jù)Tom's Hardware報(bào)道，臺(tái)積電、英特爾和三星電子等半導(dǎo)體巨頭或?qū)闹惺芤?。ASML的擴(kuò)張如果能按計(jì)劃推進(jìn)，將有助于滿足全球?qū)O紫外光（EUV）光刻設(shè)備的迫切需求，從而加速先進(jìn)制程的開發(fā)與應(yīng)用。Brainport產(chǎn)業(yè)園區(qū)的擴(kuò)張計(jì)劃大約在一年前首次公開。據(jù)荷蘭消
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俄羅斯被指竊取ASML、臺(tái)積電機(jī)密！才有了自己的28nm工藝
- 快科技4月3日消息，據(jù)NRC報(bào)道，一名43歲的俄羅斯工程師German A.，被指控從ASML阿斯麥、GlobalFoundries格芯、NXP恩智浦、TSMC臺(tái)積電竊取機(jī)密技術(shù)信息，從而幫助俄羅斯建立了自己的28nm晶圓廠。根據(jù)指控，他偷竊了ASML 105份內(nèi)部文件、臺(tái)積電88份內(nèi)部文件，涉及半導(dǎo)體生產(chǎn)、各種芯片制造設(shè)備的信息。文件中并沒有設(shè)計(jì)和建造晶圓廠的完整藍(lán)圖，后者更高級(jí)的技術(shù)，但仍被視為機(jī)密，足以支撐建立完整的28nm級(jí)工藝生產(chǎn)線，軍用等領(lǐng)域足夠了。調(diào)查稱，German A.通過網(wǎng)盤、社交應(yīng)用
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俄羅斯首臺(tái)350nm光刻機(jī)將在莫斯科生產(chǎn)
- 3月25日消息，據(jù)俄羅斯衛(wèi)星通訊社報(bào)道，莫斯科市長(zhǎng)謝爾蓋·索比亞寧近日在其 “電報(bào)” 頻道的賬號(hào)上發(fā)文稱，莫斯科“澤列諾格勒納米技術(shù)中心”公司已完成了俄羅斯首臺(tái)350nm光刻機(jī)的研發(fā)工作，這是生產(chǎn)微芯片的關(guān)鍵設(shè)備。在俄烏沖突爆發(fā)后，美西方對(duì)俄羅斯實(shí)施了更為嚴(yán)厲的出口管制措施，其中半導(dǎo)體芯片及光刻機(jī)等半導(dǎo)體設(shè)備成為了限制的重點(diǎn)，這也迫使俄羅斯開始研發(fā)自主設(shè)計(jì)的國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)。2023年，俄羅斯聯(lián)邦工業(yè)和貿(mào)易部副部長(zhǎng)瓦西里·什帕克（Vasily Shpak）在接受媒體采訪時(shí)就曾表示，2024年俄羅斯將開始生產(chǎn)35
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為中國(guó)光刻機(jī)提供服務(wù)！ASML：對(duì)北京本地維修中心升級(jí)和擴(kuò)建
- 3月7日消息，ASML公開表示，會(huì)繼續(xù)在中國(guó)市場(chǎng)提供維修服務(wù)。之前ASML表示在北京新建維修中心，而他們也是調(diào)整了這個(gè)說法?！拔覀儾皇且?025年新建一個(gè)北京本地維修中心，而是今年會(huì)在原有基礎(chǔ)上進(jìn)行升級(jí)、擴(kuò)建?！敝霸邢⒎Q，在ASML某些在中國(guó)提供服務(wù)和備件的許可證于去年年底到期后，現(xiàn)在的荷蘭首相很可能不再為其續(xù)期，而相關(guān)決定是在美國(guó)施加一定壓力后做出的。目前的情況是，ASML的銷售額中，約有一半來自中國(guó)（最新的財(cái)報(bào)顯示，中國(guó)大陸2024年為ASML貢獻(xiàn)了101.95億歐元收入，約合人民幣797.7
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世界最先進(jìn)EUV光刻機(jī)開工！Intel已產(chǎn)3萬塊晶圓 14A工藝就用它
- 2月26日消息，ASML Twinscan EXE:5000 EUV是當(dāng)今世界上最先進(jìn)的EUV極紫外光刻機(jī)，支持High-NA也就是高孔徑，Intel去年搶先拿下了第一臺(tái)，目前已經(jīng)在俄勒岡州Fab D1晶圓廠安裝部署了兩臺(tái)，正在緊張地研究測(cè)試中。Intel資深首席工程師Steve Carson透露，迄今為止，兩臺(tái)EUV光刻機(jī)已經(jīng)生產(chǎn)了3萬塊晶圓，當(dāng)然不算很多，但別忘了這只是測(cè)試和研究使用的，并非商用量產(chǎn)，足以證明Intel對(duì)于新光刻機(jī)是多么的重視。Steve Carson還強(qiáng)調(diào)，完成同樣的工作，新款光刻機(jī)
- 關(guān)鍵字： ASML 光刻機(jī) 英特爾
英特爾兩臺(tái)High NA EUV光刻機(jī)已投產(chǎn)，單季完成3萬片晶圓
- 據(jù)路透社2月24日?qǐng)?bào)道，英特爾資深首席工程師Steve Carson在美國(guó)在加利福尼亞州圣何塞舉行的一場(chǎng)會(huì)議上表示，英特爾已經(jīng)安裝的兩臺(tái)ASML High NA EUV光刻機(jī)正在其晶圓廠生產(chǎn)，早期數(shù)據(jù)表明它們的可靠性大約是上一代光刻機(jī)的兩倍。Steve Carson指出，新的High NA EUV光刻機(jī)能以更少曝光次數(shù)完成與早期設(shè)備相同的工作，從而節(jié)省時(shí)間和成本。英特爾工廠的早期結(jié)果顯示，High NA EUV 機(jī)器只需要一次曝光和“個(gè)位數(shù)”的處理步驟，即可完成早期機(jī)器需要三次曝光和約40個(gè)處
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光刻機(jī)介紹
國(guó)外半導(dǎo)體設(shè)備
我公司擁有國(guó)外半導(dǎo)體設(shè)備,包括臺(tái)灣3S公司生產(chǎn)的光刻機(jī),涂膠臺(tái),
金絲球焊機(jī),電子束蒸發(fā)臺(tái)。
濺射臺(tái)及探針臺(tái)等各種設(shè)備,世界知名劃片機(jī)企業(yè)英國(guó)Loadpoint公司生產(chǎn)的6英寸--12英寸
精密劃片機(jī)，300毫米清洗機(jī),。
如您感興趣請(qǐng)登錄以下網(wǎng)站或Email:
網(wǎng)址:http://www.loadpoint.com.cn
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