光刻機 文章 最新資訊
(2023.3.20)半導(dǎo)體周要聞-莫大康
- 半導(dǎo)體一周要聞2023.3.13-2023.3.171. 任正非：華為三年完成了13000型號器件的替代開發(fā)近日，華為公司在深圳坂田總部舉辦“難題揭榜”火花獎頒獎典禮，為在解題揭榜中做出突出貢獻的獲獎人員代表頒獎，華為總裁任正非發(fā)表了講話，部分參與座談的大學(xué)發(fā)布了座談紀(jì)要。任正非表示，在美國制裁華為這三年期間，華為完成 13000 + 型號器件的替代開發(fā)、4000 + 電路板的反復(fù)換板開發(fā)等，直到現(xiàn)在電路板才穩(wěn)定下來，因為有了國產(chǎn)的零部件供應(yīng)。任正非表示，華為現(xiàn)在還屬于困難時期，但在前進的道路上并沒有停步
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納米壓印光刻，能讓國產(chǎn)繞過 ASML 嗎
- 自從國產(chǎn)替代概念興起，很少關(guān)注半導(dǎo)體行業(yè)的人都對光刻機有所耳聞。目前，全世界最先進的芯片，幾乎都繞不開 ASML（阿斯麥）的 DUV（深紫外）和 EUV（極紫外）光刻機，但它又貴又難造，除了全力研發(fā)光刻機，國產(chǎn)有沒有其它的路可以走？事實上，光刻技術(shù)本身存在多種路線，離產(chǎn)業(yè)最近的，當(dāng)屬納米壓印光刻（Nano-Imprint Lithography，簡稱 NIL）。日本最寄望于納米壓印光刻技術(shù)，并試圖靠它再次逆襲，日經(jīng)新聞網(wǎng)也稱，對比 EUV 光刻工藝，使用納米壓印光刻工藝制造芯片，能夠降低將近四成制造成本和
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國產(chǎn)光刻機的「行軍難」
- 3 月 8 日，ASML 發(fā)表聲明回應(yīng)荷蘭政府即將出臺的半導(dǎo)體設(shè)備出口管制措施。ASML 稱，這些新的出口管制措施側(cè)重于先進的芯片制造技術(shù)，包括最先進的沉積設(shè)備和浸潤式光刻系統(tǒng)，ASML 將需要申請出口許可證才能發(fā)運最先進的浸潤式 DUV 系統(tǒng)。ASML 強調(diào)，這些管制措施需要一定時間才能付諸立法并生效。3 月 9 日，外交部例行記者會上，有媒體提問，據(jù)報道，荷蘭外貿(mào)與發(fā)展合作大臣施賴納馬赫爾向荷議會致函稱，出于國家安全考慮，荷蘭將于今年夏天之前對其芯片出口實施限制性措施。中方對此有何評論？外交部發(fā)言人毛
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佳能發(fā)布半導(dǎo)體光刻機新品 FPA-5550iX，可用于全畫幅 CMOS 制造等
- IT之家 3 月 13 日消息，佳能于今日發(fā)售了面向前道工序的半導(dǎo)體光刻機新產(chǎn)品 —— i 線步進式光刻機“FPA-5550iX”，該產(chǎn)品能夠同時實現(xiàn) 0.5μm（微米）高解像力與 50×50mm 大視場曝光。據(jù)介紹，新產(chǎn)品“FPA-5550iX”能夠同時實現(xiàn) 50×50mm 大視場及 0.5μm 高解像力曝光，在不斷趨向高精尖化的全畫幅 CMOS 傳感器制造領(lǐng)域中，使得單次曝光下的高解像力成像成為可能。同時，通過充分利用高解像力與大視場的優(yōu)勢，“FPA-5550iX”也可應(yīng)用于頭戴式
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ASML堵了EUV光刻機的路，但國產(chǎn)光刻機有3大新方向
- 眾所周知，當(dāng)前全球只有ASML一家能夠生產(chǎn)EUV光刻機，甚至可以說很長一段時間內(nèi)，全球也只有ASML能夠生產(chǎn)光刻機，不會有第二家。原因在于ASML把EUV光刻機的路堵住了，這條路別人是走不通的。ASML與全球眾多的供應(yīng)鏈，形成了捆綁關(guān)系，像蔡司等與ASML形成了利益共同體，EUV光刻機中，蔡司等廠商至關(guān)重要，掌握核心科技，缺少這些供應(yīng)鏈，其它廠商不可能制造出EUV光刻機。所以，目前眾多的其它光刻機企業(yè)，并不打算走EUV光刻機這條路，在另尋它路。同樣的，國產(chǎn)光刻機基本上也走不通EUV這條路，只能另尋他路，而
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預(yù)計出貨國內(nèi)超100臺光刻機，美國急不急？
- 日前，ASML又正式官宣，2023年營收預(yù)計增長25%，預(yù)計國內(nèi)市場營收將會穩(wěn)定在22億歐元。數(shù)據(jù)顯示，一臺DUV光刻機的售價大約在2000萬美元，22億歐元大約可以購買超100臺DUV光刻機，這意味著ASML預(yù)計今年向國內(nèi)出貨超100臺DUV光刻機。不管如此，ASML宣布到2025年，DUV光刻機產(chǎn)能將會達(dá)到600臺，EUV光刻機產(chǎn)能達(dá)到90臺，這意味著未來一段時間內(nèi)，DUV光刻機仍是主力出貨設(shè)備。對此，就有外媒表示美國急不急？首先，光刻機是生產(chǎn)制造芯片的必要設(shè)備，也是美掌握為數(shù)不多的卡脖子設(shè)備，一旦光
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佳能推出晶圓測量機新品 MS-001：比光刻機精度更高，可提高生產(chǎn)效率
- IT之家 2 月 21 日消息，在邏輯、存儲器、CMOS 傳感器等尖端半導(dǎo)體領(lǐng)域，制造工藝日趨復(fù)雜，半導(dǎo)體元器件制造廠商為了制造出高精度的半導(dǎo)體元器件，需要提高套刻的精度，因而曝光前要測量的對準(zhǔn)測量點也越來越多。如果在半導(dǎo)體光刻機中對數(shù)量眾多的測量點進行對準(zhǔn)測量的話，測量本身會非常耗時，進而就會降低半導(dǎo)體光刻機的生產(chǎn)效率。為此，半導(dǎo)體制造領(lǐng)域引進了晶圓測量機，將半導(dǎo)體光刻機的對準(zhǔn)測量功能分離出來，以此來確保生產(chǎn)的高精度和效率。2 月 21 日，佳能推出了半導(dǎo)體制造用晶圓測量機“MS-001”，該
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淺析中美芯片博弈——美國加碼對華為禁令，ASML DUV光刻機對華出口或有變
- 2019年，無論從那個角度來說，都是最好的一年。在那一年的智能手機消費市場中，手機品牌競爭激烈，紛紛拿出了不少產(chǎn)品力很強的產(chǎn)品，三星、華為、蘋果分別位列全球前三。這一年，是手機市場巔峰，也是華為最強盛的時期，這一年，華為全年智能手機出貨量高達(dá)2.4億臺，超越蘋果，緊逼三星；這一年，華為的營收高達(dá)8588億人民幣，其中智能手機為主的消費者業(yè)務(wù)貢獻了4673億人民幣，占到了一半以上的營收比例，是華為最大的營收來源，賺錢能力強?？梢簿褪沁@一年，美國開始了對華貿(mào)易戰(zhàn)，開始了對于華為的全面打壓，首先，谷歌禁止了華為
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光刻機龍頭ASML公布2022全年財報佳績，預(yù)計2023年凈銷售額同比增長超25%
- 當(dāng)?shù)貢r間，2023年1月25日，荷蘭光刻機龍頭ASML發(fā)布了2022年第四季度和全年業(yè)績。2022年第四季度的凈銷售額為64億歐元，達(dá)到了預(yù)期目標(biāo)區(qū)間中位，毛利率為51.5%，高于預(yù)期。同時，毛利率還受到去年ASML柏林工廠火災(zāi)導(dǎo)致的額外升級和保險賠償影響。2022年全年ASML總凈銷售額為212億歐元，毛利率為50.5%，凈利潤為56億歐元。另外，2022年底，ASML未交付訂單創(chuàng)下歷史新高，達(dá)404億歐元，該年總共銷售317臺新光刻機，較前一年增長31臺，此外還出貨了28臺二手光刻機。展望未來，ASM
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EUV光刻機開始“落幕”了
- 說到光刻機大家難免會想到三個廠商，荷蘭的ASML公司、尼康和佳能。而光刻機就是制造芯片的核心裝備?，F(xiàn)如今光刻機領(lǐng)域的核心地位就是荷蘭的ASML，他與臺積電合作，共同突破了沉浸式DUV光刻機，也正因為此動作，才奠定了ASML在光刻機領(lǐng)域的核心地位。后續(xù)ASML又推出了更加高端的EUV光刻機，而且還是獨家壟斷生產(chǎn)。這就進一步使得ASML成為行業(yè)的巨頭。隨著科技的不斷發(fā)展，市場就要越來越追求高性能以及高要求，ASLM造成的長時間壟斷，導(dǎo)致其他同行沒有辦法發(fā)展。在他自身無法突破的前提下，他的路是越走越窄。在全球范
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消息稱光刻機巨頭 ASML 臺灣地區(qū)新工廠明年 7 月動工
- IT之家 12 月 7 日消息，據(jù)臺灣地區(qū)經(jīng)濟日報報道，光刻機巨頭 ASML 將擴大在臺灣地區(qū)的投資。ASML 臺灣地區(qū)新工廠預(yù)計將在明年 7 月動工，是該公司在當(dāng)?shù)氐淖畲笸顿Y，并計劃把歐洲供應(yīng)鏈帶到臺灣地區(qū)。臺媒指出，ASML 帶來的歐洲供應(yīng)鏈將會落地林口工一研發(fā)中心、桃園龜山兩處，未來不排除以相同模式陸續(xù)在新竹、臺中、臺南落地。此外，ASML 帶來的主要為設(shè)備維修及組裝。數(shù)據(jù)顯示，2022 年第三季度，ASML 實現(xiàn)了凈銷售額 58 億歐元（約 425.72 億元人民幣），毛利率為
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三星首次引進本土生產(chǎn)光刻膠，日本稱霸該市場
- 12 月 4 日消息，據(jù) ETNews 消息，三星電子首次引入東進世美肯半導(dǎo)體的光刻膠進入其量產(chǎn)線，這也是三星進行光刻膠本土量產(chǎn)的首次嘗試。不過考慮到三星與海外光刻膠供應(yīng)商的關(guān)系，目前具體產(chǎn)量尚不清楚，且三星是否會額外引進其他品種的光刻膠也并沒有得到回應(yīng)。報道稱，三星電子已將韓國公司開發(fā)的用于高科技工藝的極紫外光刻膠（PR）引入其大規(guī)模生產(chǎn)線。2019 年 7 月，日本方面宣布限制向韓國出口包括含氟聚酰亞胺、光刻膠以及高純度氟化氫在內(nèi)的三項重要半導(dǎo)體及 OLED 面板原材料，經(jīng)過三年的努力，韓國實現(xiàn)了光刻
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有多貴？ASML新EUV光刻機單臺硬件造價2500億：可買三臺頂級航母
- 都知道光刻機單臺成本非常的貴，但是你知道有多貴嗎？一臺數(shù)億美元的光刻機讓我們看到了一款硬件設(shè)備的價格極限，然而，ASML CEO Peter Wennink最新接受媒體采訪時透露，他們正在全力研制劃時代的新光刻機high-NA EUV設(shè)備，而高NA EUV光刻機系統(tǒng)的單臺造價將在300億到350億歐元之間，約合人民幣2195到2561億元。這個價格什么概念，一搜頂級航母的價格差不多在100億美元左右，而這臺硬件設(shè)備可以買三艘頂級航母，而ASML目前在售的雙工件臺EUV光刻機不過數(shù)億美元，作為下一代產(chǎn)品身價
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光刻機介紹
國外半導(dǎo)體設(shè)備
我公司擁有國外半導(dǎo)體設(shè)備,包括臺灣3S公司生產(chǎn)的光刻機,涂膠臺,
金絲球焊機,電子束蒸發(fā)臺。
濺射臺及探針臺等各種設(shè)備,世界知名劃片機企業(yè)英國Loadpoint公司生產(chǎn)的6英寸--12英寸
精密劃片機，300毫米清洗機,。
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網(wǎng)址:http://www.loadpoint.com.cn
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