8月13日，我國首臺自主研發(fā)的商用電子束光刻機“羲之”在浙江余杭正式揭幕。

根據(jù)杭州政府網(wǎng)站的報道，這臺機器是浙江大學技術(shù)轉(zhuǎn)化基地簽署的第一個項目之一。它已經(jīng)在客戶現(xiàn)場進行了測試，精度與主流國際設(shè)備相當。這一里程碑標志著量子芯片研發(fā)現(xiàn)在有了自己的“中國刻刀?！?/span>

研發(fā)團隊的一名成員解釋說，西馳專注于量子芯片和下一代半導體研究的核心階段。它使用高能電子束在硅基板上“手繪”電路，實現(xiàn)0.6納米的精度和8納米的線寬。其設(shè)計可以靈活修改，無需掩模，就像用納米級的畫筆直接在芯片上繪畫一樣——特別適合芯片開發(fā)早期階段所需的迭代調(diào)試。

此前，此類設(shè)備受到國際出口管制的限制，導致中國頂尖科研機構(gòu)如中國科學技術(shù)大學和中浙實驗室無法采購?！棒酥钡耐瞥鲇型缭竭@一障礙，目前已有多個科研機構(gòu)正在進行討論。

西齊電子束光刻機的成功應(yīng)用測試，在國內(nèi)高端半導體核心設(shè)備的發(fā)展上是一個重大突破。這款自主研發(fā)的“中國刻刀”將為加速國內(nèi)先進芯片的研發(fā)、確保未來技術(shù)的戰(zhàn)略優(yōu)勢奠定堅實基礎(chǔ)。