日本a√视频在线,久久青青亚洲国产,亚洲一区欧美二区,免费g片在线观看网站

        <style id="k3y6c"><u id="k3y6c"></u></style>
        <s id="k3y6c"></s>
        <mark id="k3y6c"></mark>
          
          

          <mark id="k3y6c"></mark>

          首頁  資訊  商機   下載  拆解   高校  招聘   雜志  會展  EETV  百科   問答  電路圖  工程師手冊   Datasheet  100例   活動中心  E周刊閱讀   樣片申請
          EEPW首頁 >> 主題列表 >> 光刻機

          光刻機 文章 最新資訊

          俄羅斯正在開發(fā)可替代光刻機的芯片制造工具

          • 近期,俄羅斯國際新聞通訊社報道,俄羅斯在開發(fā)可以替代光刻機的芯片制造工具。據(jù)悉,圣彼得堡理工大學的研究人員開發(fā)出了一種“光刻復合體”,可用于蝕刻生產(chǎn)無掩模芯片,這將有助于俄羅斯在微電子領(lǐng)域技術(shù)領(lǐng)域獲得主動權(quán)。該設(shè)備綜合體包括用于無掩模納米光刻和等離子體化學蝕刻的設(shè)備,其中一種工具的成本為500萬盧布(約36.7萬元人民幣),另一種工具的成本未知。開發(fā)人員介紹,傳統(tǒng)光刻技術(shù)需要使用專門的掩膜板來獲取圖像。該裝置由專業(yè)軟件控制,可實現(xiàn)完全自動化,隨后的另外一臺設(shè)備可直接用于形成納米結(jié)構(gòu),但也可以制作硅膜,例如
          • 關(guān)鍵字: 俄羅斯  光刻機  芯片制造  

          ASML再次改口!國家迅速回應,外媒:荷蘭將光刻機事情鬧大了

          • 近年來,光刻機行業(yè)發(fā)展迅猛,成為半導體產(chǎn)業(yè)的重要一環(huán)。ASML公司作為全球光刻機行業(yè)的龍頭企業(yè),其對華出口光刻機的態(tài)度一直備受關(guān)注。然而,最近ASML公司的態(tài)度再次發(fā)生變化,引發(fā)了國家的迅速回應。荷蘭的決定被外媒認為將光刻機事情鬧大了。本文將分別從ASML公司態(tài)度的變化、荷蘭及日本的對華出口管控、ASML公司的技術(shù)依賴和市場地位、我國光刻機技術(shù)的突破、ASML公司對華出口限制的影響以及中企自主掌握核心技術(shù)等方面進行分析。ASML公司對華出口光刻機態(tài)度的變化ASML公司在對華出口光刻機的態(tài)度上一直搖擺不定。
          • 關(guān)鍵字: ASML  光刻機  國產(chǎn)  

          光刻機發(fā)展要另辟蹊徑?

          • 最近,光刻機話題異?;馃?,似乎全世界都在關(guān)注中國本土相關(guān)產(chǎn)業(yè)的發(fā)展。要想制造出一臺可商用的高端光刻機(可制造 7nm 及更先進制程芯片),是一項復雜的工程,因為高端光刻機所需要的精密零部件太多了,每一種的技術(shù)含量都非常高,而且,要想把這些零部件組合成一臺可用的機器,需要長期的技術(shù)和實踐積累。光刻這個概念,有廣義和狹義之分。在狹義層面,就是用光去「復印」集成電路圖案,這也是我們常說的光學光刻技術(shù),特別是紫外線光刻技術(shù)(DUV 和 EUV)。在廣義層面,光刻泛指各種集成電路「復印」和「印刷」技術(shù),這些技術(shù)中,
          • 關(guān)鍵字: 光刻機  

          國產(chǎn)光刻機工廠落地雄安?中國電子院澄清:這是北京高能同步輻射光源

          • 近期,一則消息在各大視頻平臺廣為傳播,稱清華大學EUV項目把ASML的光刻機巨大化,實現(xiàn)了光刻機國產(chǎn)化,并表示這個項目已經(jīng)在雄安新區(qū)落地。對此,中國電子工程設(shè)計院有限公司(下稱中國電子院)9月18日發(fā)聲,稱該項目并非網(wǎng)傳的國產(chǎn)光刻機工廠,而是北京高能同步輻射光源項目(HEPS)。北京高能同步輻射光源項目坐落于北京懷柔雁棲湖畔,是國家“十三五”重大科技基礎(chǔ)設(shè)施,它是我國第一臺高能量同步輻射光源,也是世界上亮度最高的第四代同步輻射光源之一。該項目早在2019年就開始建設(shè)、將于2025年底投入使用。北京高能同步
          • 關(guān)鍵字: 光刻機  高能同步輻射光源  

          光刻機之爭掀起第三波浪潮

          • 當下,光刻機在半導體行業(yè)的地位前所未有的重要,而且已經(jīng)突破了技術(shù)和產(chǎn)業(yè)范疇,引發(fā)了新一波光刻機之爭。從歷史發(fā)展情況來看,光刻機(這里主要指用于制造集成電路前道工序的光刻機)的發(fā)展和應用經(jīng)歷了很多波折,總體來看,有兩個值得關(guān)注的時期,一個是 ASML 依靠浸沒式技術(shù),異軍突起,并將原本的行業(yè)兩強甩在身后,這是技術(shù)之戰(zhàn),另一個是 EUV 商用化之后,先進制程(從 16nm 開始)爭奪戰(zhàn)打響,臺積電、三星電子和英特爾這三家為了爭奪產(chǎn)量有限的 EUV 而展開競爭,這是商業(yè)之爭。從目前的情況來看,第三波光刻機之爭正
          • 關(guān)鍵字: 光刻機  

          尼康推出新一代步進式光刻機“NSR-2205iL1”,2024 年夏季上市

          • IT之家 9 月 6 日消息,尼康宣布推出新一代具有 5 倍縮小投影倍率的 i-line 步進式光刻機“NSR-2205iL1”,預計 2024 年夏季上市。據(jù)稱,這種光刻機具有縮小投影放大系統(tǒng),支持功率半導體、通信半導體和 MEMS 等多種產(chǎn)品,并且與尼康現(xiàn)有的 i-line 曝光設(shè)備高度兼容;NSR-2205iL1 代表了尼康 5 倍步進技術(shù)在過去二十五年中的最重大的更新,將可直接響應客戶對這些在芯片制造中發(fā)揮重要作用的光刻系統(tǒng)的需求。尼康表示,與現(xiàn)有的尼康 i-line 曝光系統(tǒng)相比,NS
          • 關(guān)鍵字: 尼康  光刻機  

          日本與荷蘭簽署半導體合作備忘錄:采購 ASML 光刻機,加強技術(shù)合作

          • IT之家 6 月 26 日消息,據(jù)日本經(jīng)濟新聞報道,日本經(jīng)產(chǎn)省與荷蘭經(jīng)濟事務(wù)和氣候政策部在東京簽署了半導體合作備忘錄。二者將共同推進欲量產(chǎn) 2 nm 工藝的日本晶圓代工商 Rapidus 與荷蘭光刻機巨頭 ASML 的合作,并聯(lián)手進行技術(shù)開發(fā)?!?圖源:ASML報道稱,ASML 量產(chǎn)尖端半導體工藝所需的 EUV 光刻機。Rapidus 計劃利用經(jīng)產(chǎn)省提供的補貼,采購 EUV 光刻設(shè)備。IT之家注意到,EUV 光刻機在全球范圍內(nèi)較為短缺,面臨著臺積電、英特爾、三星等巨頭的爭搶。報道指出,如果 Ra
          • 關(guān)鍵字: ASML  光刻機  

          開始1-γ芯片制程開發(fā)?美光日本廠擬引入ASML光刻機

          • 知情人士稱,美國美光科技公司準備在日本廣島的工廠安裝荷蘭ASML公司的先進芯片制造設(shè)備EUV(極紫外光刻機),以制造下一代存儲芯片(DRAM)。而其也將獲得日本政府提供的約2000億日元(15億美元)的補貼。日本經(jīng)濟產(chǎn)業(yè)大臣西村康稔之后證實了美光在日的進一步投資。他指出,日本政府正與臺積電討論擴大在日投資的可能性,美光也有意在廣島開始大規(guī)模生產(chǎn)先進存儲芯片。今日(周四),日本首相岸田文雄會見了美光首席執(zhí)行官Sanjay Mehrotra在內(nèi)的芯片高管代表團,而有關(guān)芯片的詳細計劃可能在之后陸續(xù)宣布。自201
          • 關(guān)鍵字: 1-γ  芯片制程  美光  ASML  光刻機  

          2025搞定2nm工藝 日本芯片公司Rapidus已搞定EUV光刻機

          • 5月17日消息,原本已經(jīng)落后的日本半導體制造行業(yè)近年來加快了追趕速度,去年8月份索尼、豐田等8家企業(yè)出資成立了Rapidus,計劃2025年試產(chǎn)2nm工藝,而且很快就籌備了EUV光刻機。日本當前的邏輯工藝還在28nm以上,但是Rapidus公司選擇跳過中間的工藝,直接搞2nm工藝,而5nm以下的工藝都離不開EUV光刻機,不論研發(fā)還是制造都要先買設(shè)備。Rapidus社長小池淳義日前在采訪中透露,他們已經(jīng)完成了1臺EUV光刻機的籌備,不過具體的型號及進度沒有說明,不確定是ASML的哪款EUV光刻機,何時安裝、
          • 關(guān)鍵字: 日本  EUV  光刻機  

          在光刻機新技術(shù)的研發(fā)上, 我們似乎又掉隊了

          • 目前全球僅4家廠商,能夠制造光刻機,分別是荷蘭的ASML,日本的尼康、佳能,和上海的微電子。從技術(shù)水平來看,ASML>尼康>佳能>上海微電子。如下圖所示,ASML的光刻機能夠達到3nm的精度了,而尼康的主要在28nm及以上,而佳能、上海微電子的在90nm以上。再給大家一個數(shù)字,這是某機構(gòu)統(tǒng)計的,2021年全球半導體前道光刻機的銷售情況,從這張表可以看出來,小米7nm的EUV光刻機,ASML全部包攬。在45-7nm的光刻機上,僅有尼康、ASML能夠推出,尼康也就是打醬油,僅賣出4臺,另外的
          • 關(guān)鍵字: 光刻機  ASML  尼康  佳能  上海微電子  

          ASML預測,未來九個月對中國的銷量將大幅回升

          • ASML 財務(wù)總監(jiān) Roger Daasen 表示,今年未來幾個季度中國大陸的銷量將顯著回升。
          • 關(guān)鍵字: ASML  光刻機  EUV 極紫外光刻機  

          ASML:2023年光刻機市場需求將超出產(chǎn)能

          • 受消費電子市場低迷影響,半導體產(chǎn)業(yè)邁入下行周期,上游半導體設(shè)備也因客戶去庫存、調(diào)整訂單受到影響。不過,光刻機龍頭企業(yè)ASML發(fā)布的最新財報顯示,盡管光刻機業(yè)務(wù)遭遇一定挑戰(zhàn),但未來產(chǎn)業(yè)前景仍舊向好。01EUV/DUV收入超預期增長,半導體需求結(jié)構(gòu)性分化4月19日,ASML發(fā)布2023年第一季度財報,該季ASML實現(xiàn)了凈銷售額67億歐元,毛利率為50.6%,凈利潤達20億歐元。今年第一季度的新增訂單金額為38億歐元,其中16億歐元為EUV光刻機訂單。ASML預計2023年第二季度的凈銷售額約為65億~70億歐
          • 關(guān)鍵字: ASML  光刻機  

          ASML遭臺積電大規(guī)??硢?,強調(diào)7nm高端DUV光刻機仍可出口中國

          • 據(jù)臺系設(shè)備廠商透露ASML近期由于客戶大砍資本支出、縮減訂單,最重要的是大客戶臺積電也大砍逾4成EUV設(shè)備訂單及延后拉貨時間,2024全年業(yè)績將明顯承壓。根據(jù)ASML的財報顯示,今年一季度的凈銷售額為67.46億歐元,較去年同期的35.34億歐元大幅增加,接近翻番,較上一季度的64.3億歐元也有增加;凈利潤為19.56億歐元,較去年同期的6.95億歐元大幅增加,較上一季度的18.17億歐元也有增加。雖然凈銷售及利潤同比環(huán)比均有增加,但ASML在財報中也披露了不利的消息,其一季度的凈訂單只有37.52億歐元
          • 關(guān)鍵字: ASML  臺積電  7nm  DUV  光刻機  出口  中國  

          光刻機龍頭ASML全球總裁來中國了!

          • 3月28日,商務(wù)部部長王文濤會見荷蘭阿斯麥公司(ASML)全球總裁溫寧克。商務(wù)部官網(wǎng)消息,3月23日-28日,王文濤相繼會見了高通、蘋果、寶馬等超10家外企高管。王文濤強調(diào),中國堅定不移推進高水平開放,愿為包括阿斯麥公司(ASML)在內(nèi)的跨國公司來華發(fā)展創(chuàng)造良好營商環(huán)境,并提供高效服務(wù)。希望阿斯麥堅定對華貿(mào)易投資合作信心,為中荷經(jīng)貿(mào)合作作出積極貢獻,并共同維護全球半導體產(chǎn)業(yè)鏈供應鏈穩(wěn)定。雙方還就阿斯麥在華發(fā)展等議題進行了交流。證券時報·e公司記者留意到,上述會面距離3月8日荷蘭政府發(fā)布有關(guān)即將出臺的半導體
          • 關(guān)鍵字: 阿斯麥  ASML  光刻機  

          (2023.3.20)半導體周要聞-莫大康

          • 半導體周要聞2023.3.13-2023.3.171. 任正非:華為三年完成了13000型號器件的替代開發(fā)近日,華為公司在深圳坂田總部舉辦“難題揭榜”火花獎頒獎典禮,為在解題揭榜中做出突出貢獻的獲獎人員代表頒獎,華為總裁任正非發(fā)表了講話,部分參與座談的大學發(fā)布了座談紀要。任正非表示,在美國制裁華為這三年期間,華為完成 13000 + 型號器件的替代開發(fā)、4000 + 電路板的反復換板開發(fā)等,直到現(xiàn)在電路板才穩(wěn)定下來,因為有了國產(chǎn)的零部件供應。任正非表示,華為現(xiàn)在還屬于困難時期,但在前進的道路上并沒有停步。
          • 關(guān)鍵字: 莫大康  半導體  華為  光刻機  NAND  
          共217條 6/15 |‹ « 4 5 6 7 8 9 10 11 12 13 » ›|

          光刻機介紹

          國外半導體設(shè)備 我公司擁有國外半導體設(shè)備,包括臺灣3S公司生產(chǎn)的光刻機,涂膠臺, 金絲球焊機,電子束蒸發(fā)臺。 濺射臺及探針臺等各種設(shè)備,世界知名劃片機企業(yè)英國Loadpoint公司生產(chǎn)的6英寸--12英寸 精密劃片機,300毫米清洗機,。 如您感興趣請登錄以下網(wǎng)站或Email: 網(wǎng)址:http://www.loadpoint.com.cn www.chihoc [ 查看詳細 ]

          熱門主題

          光刻機    樹莓派    linux   
          關(guān)于我們 - 廣告服務(wù) - 企業(yè)會員服務(wù) - 網(wǎng)站地圖 - 聯(lián)系我們 - 征稿 - 友情鏈接 - 手機EEPW
          Copyright ?2000-2015 ELECTRONIC ENGINEERING & PRODUCT WORLD. All rights reserved.
          《電子產(chǎn)品世界》雜志社 版權(quán)所有 北京東曉國際技術(shù)信息咨詢有限公司
          備案 京ICP備12027778號-2 北京市公安局備案:1101082052    京公網(wǎng)安備11010802012473