隨著中國通過增加國內(nèi) AI 芯片來對抗 NVIDIA 推動半導(dǎo)體獨立，據(jù)報道，中國正朝著自力更生邁出另一大步，因為 SMIC 據(jù)報正在測試由本地初創(chuàng)公司 Yuliangsheng 開發(fā)的深紫外（DUV）光刻機。

SiCarrier 通常以中國標(biāo)志性的山命名其設(shè)備，包括用于蝕刻機的武夷和用于外延產(chǎn)品的峨眉，TechPowerUp 報道。有趣的是，金融時報披露，這次最新的 EUV 計劃，據(jù)熟悉情況的人士稱，擁有雄心勃勃的內(nèi)部代號“珠穆朗瑪峰”。

消息人士稱，SMIC 正在測試的機器使用與 ASML 系統(tǒng)類似的全浸沒技術(shù)。

由于 ASML 被禁止向中國出售 EUV 設(shè)備，報道說，中國芯片制造商繼續(xù)依賴 ASML 的 DUV 工具——大多數(shù)是在美國領(lǐng)導(dǎo)的出口管制之前獲得的，或者是從其他國家購買二手的——來生產(chǎn)中國最先進(jìn)的處理器，包括華為的昇系列。

前進(jìn)中的障礙

然而，《金融時報》也指出了中國 DUV 推進(jìn)面臨的障礙。正如報道所述，雖然玉良盛的機器中大多數(shù)組件是國產(chǎn)的，但仍有部分需要進(jìn)口，盡管該公司正在努力實現(xiàn)所有部件的本土化。

另一方面，據(jù)《金融時報》報道，SMIC 的試驗早期結(jié)果據(jù)說很有希望，但仍然不清楚這些機器何時能夠?qū)崿F(xiàn)大規(guī)模生產(chǎn)。據(jù)報道，新的 DUV 工具通常需要至少一年的反復(fù)調(diào)整才能達(dá)到生產(chǎn)所需的穩(wěn)定性和良率。

關(guān)于適用工藝，報道指出，SMIC 的國產(chǎn) 28 納米（nm）DUV 光刻機旨在使用多重圖案技術(shù)生產(chǎn) 7 納米（nm）時代的芯片。據(jù)報道，雖然這些機器有可能生產(chǎn) 5 納米芯片，但良率會較低，使得更先進(jìn)的處理器難以實現(xiàn)。

如果成功，國產(chǎn)芯片制造設(shè)備將為中國在芯片領(lǐng)域的雄心提供巨大推動力。 金融時報此前報道，中國計劃明年將人工智能處理器產(chǎn)量增加兩倍，華為的人工智能芯片工廠預(yù)計將在年底前開始生產(chǎn)，2026 年還有兩家工廠預(yù)計建成。