歐洲半導(dǎo)體設(shè)備大廠ASML透露，晶圓代工大廠臺積電(TSMC)計劃在2015年采購兩套超紫外光(EUV)掃描機，或?qū)⑻降字?a class="contentlabel" href="http://yuyingmama.com.cn/news/listbylabel/label/7納米">7納米的工藝技術(shù)節(jié)點。

　　根據(jù)ASML資深副總裁FritsvanHout的描述，臺積電采購的EUV掃描機是針對10納米工藝應(yīng)用。他預(yù)期，臺積電可能最快在2018年以采購ASML的EUV掃描機展開7納米工藝芯片量產(chǎn)。

　　在11月24日舉行的倫敦法說會上，ASML宣布接獲臺積電2臺NXE：3350BEUV系統(tǒng)訂單，預(yù)計于2015年出貨，用于量產(chǎn)。ASML表示，業(yè)界可能會開始傾向于支持EUV技術(shù)。

　　臺積電在2012年8月便曾表示，同意投資ASML約85.4億元，以確保取得最新的量產(chǎn)技術(shù)知識。此次采用EUV設(shè)備，臺積電可能成為下一代半導(dǎo)體微影主流技術(shù)的第一波推動者。

　　臺積電共同執(zhí)行長劉德音說，他希望該套設(shè)備能在2015年年底準備好試產(chǎn)，并在2016年正式生產(chǎn)。

　　ASML估計邏輯電路會最早使用EUV工藝，將在2016年的10納米節(jié)點上實現(xiàn)量產(chǎn)，NAND閃存會在2019開始啟用EUV工藝，DRAM及MPU產(chǎn)品則會在2018年進入EUV時代。如果一切順利，ASML預(yù)計2020年前會出貨50臺~60臺EUV設(shè)備，營收達到120億美元。