揭秘臺(tái)積電沖刺“1nm”背后的技術(shù)秘密
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近日，臺(tái)積電的一條傳聞引爆行業(yè)，摩爾定律是否就此將“失效”了呢？ 有報(bào)道稱，目前正在推進(jìn)3nm制程工藝量產(chǎn)的臺(tái)積電，同時(shí)也在推進(jìn)更先進(jìn)的2nm及1nm制程工藝。其中，2nm制程工藝預(yù)計(jì)在2025年下半年量產(chǎn)，而1nm制程工藝已在謀劃工廠的建設(shè)事宜。 臺(tái)積電能否突破摩爾定律，提前實(shí)現(xiàn)2nm甚至1nm制程工藝的量產(chǎn)，值得期待！ 臺(tái)積電在美國(guó)最新申請(qǐng)的5件專利，其中或許就有減小線寬實(shí)現(xiàn)降低制程的“秘密”！ 我們一起來看看5條詳細(xì)技術(shù)專利情況吧～
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