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ASML看好中國市場 最先進光刻機將入華
- 中國集成電路制造年會近日邀請到了光刻機霸主ASML(阿斯麥)中國區(qū)總裁沈波參加，他出面解答了一些媒體關(guān)心的話題?！ ”M管UMC(聯(lián)電)和Globalfoundries(格羅方德，格芯)先后宣布放棄7nm制程及更先進工藝的研發(fā)，但ASML依然對EUV光刻機的前景表示樂觀?！ 〈饲坝邢⒅赋?，中芯國際(SMIC)今年已向ASML訂購了一臺EUV光刻機，預計明年交付，用于7nm節(jié)點?！ ⊥瑫r，傳統(tǒng)的沉浸式光刻機方面，沈波稱，今年下半年ASML已開始出貨家族最先進的NXT：2000i，很快會在中國市場上也見到
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迫于美國政府壓力，光刻機巨頭荷蘭ASML被曝不再招收中國員工 ...
- 在高科技領(lǐng)域，美國這一年來加強了對中國人的防范，不只限于美國本土，就連歐洲公司也受到了美國政府的壓力，荷蘭ASML被曝禁止招收中國籍員工。 在光刻機領(lǐng)域，荷蘭ASML公司幾乎壟斷了全球高端光刻機市場，在EUV光刻機中更是獨一份，7nm及以后的工藝都要依賴EUV光刻機。在高科技領(lǐng)域，美國這一年來加強了對中國人的防范，不只限于美國本土，就連歐洲公司也受到了美國政府的壓力，荷蘭ASML被曝禁止招收中國籍員工。 如果說半導體產(chǎn)業(yè)是制造工業(yè)的皇冠，那么光刻機可以說是皇冠上的明珠，因為光刻機是半導體制造中最關(guān)
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ASML出貨新光刻機NXT2000i：用于7nm/5nm DUV工藝
- 據(jù)外媒報道，光刻機霸主ASML(阿斯麥)已經(jīng)開始出貨新品Twinscan NXT：2000i DUV(NXT：2000i雙工件臺深紫外光刻機)，可用于7nm和5nm節(jié)點?！ XT：2000i將是NXE：3400B EUV光刻機的有效補充，畢竟臺積電/GF的第一代7nm都是基于DUV工藝?！ ⊥瑫r，NXT：2000i也成為了ASML旗下套刻精度(overlay)最高的產(chǎn)品，達到了和3400B一樣的1.9nm(5nm要求至少2.4nm，7nm要求至少3.5nm)?！ SML將于本季度末開始量產(chǎn)Twin
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華虹12寸晶圓廠裝備大陸最先進沉浸式光刻機：邁向14nm
- 中芯國際花了1.2億美元從荷蘭ASML(阿斯麥)買來一臺EUV極紫外光刻機，未來可用于生產(chǎn)7nm工藝芯片，長江存儲也迎來了自己的第一臺光刻機，同樣來自ASML，不過是193nm沉浸式，用于產(chǎn)20-14nm工藝的3D NAND閃存晶圓，7200萬美元一臺?！ ?jù)集微網(wǎng)報道， 5月21日上午，在上海浦東新區(qū)康橋工業(yè)園南區(qū)，華虹集團旗下上海華力集成電路制造有限公司建設(shè)和營運的12英寸先進生產(chǎn)線建設(shè)項目(“華虹六廠”)實現(xiàn)首臺工藝設(shè)備光刻機搬入。 這臺光刻機的型號是NXT 1980Di，依然是荷蘭ASML提
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價值7200萬美元，長江存儲首臺光刻機運抵武漢
- 長江存儲的首臺光刻機已于今天中午運抵武漢天河機場，設(shè)備相關(guān)的海關(guān)、商檢及邊防口岸的相關(guān)手續(xù)辦理完成后，即可運至長江存儲的工廠。據(jù)集微網(wǎng)獨家消息，這臺光刻機為ASML的193nm浸潤式光刻機，售價7200萬美元，用于14nm~20nm工藝。這也從側(cè)面透露了長江存儲3D NAND閃存芯片的工藝制程。這是長江存儲的第一臺光刻機，陸續(xù)還會有多臺運抵。 圖：ASML的光刻機安全降落武漢天河機場，正在卸貨中 在今年的4月5日，長江存儲首批400萬美元的精密儀器開始進場安裝，標志著國家存儲器基地從廠房建設(shè)階段進
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這些“細節(jié)”讓中國難望頂級光刻機項背
- 真正的核心技術(shù)靠化緣是要不來的。我們還有多少亟待攻克的關(guān)鍵核心技術(shù)，差距在哪，需要從哪些方面突破?
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上海微電子采購Bumotec機床 加速中國光刻機研發(fā)
- 去年，一臺價值1.06億元設(shè)備經(jīng)空運從荷蘭飛抵廈門，由于該設(shè)備價值高，而且對保存和運輸有著很高的要求——保存溫度必須保持在23攝氏度恒溫狀態(tài)下，為了避免影響設(shè)備的精度，在運輸中也對穩(wěn)定性有極高的要求。因此，機場海關(guān)以機坪查驗的方式對該貨物實行全程機邊監(jiān)管，待貨物裝入特制溫控氣墊車后移至海關(guān)的機坪視頻監(jiān)控探頭之下，在完成緊急查驗后當晚就放行。 沒錯，這臺設(shè)備就是荷蘭ASML的光刻機。鐵流猜測，這臺設(shè)備很有可能是廈門當?shù)卣c臺灣聯(lián)華電子合資的晶圓廠從荷蘭ASML采購的。
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光刻機領(lǐng)域國內(nèi)接近世界先進水平，9nm線寬光刻實現(xiàn)突破
- SEMICON China 2017開幕日即3月14日，上海微電子裝備(集團)股份有限公司(后簡稱“SMEE”)宣布，SMEE 與荷蘭公司 ASML 簽署戰(zhàn)略合作備忘錄(MoU)，為雙方進一步的潛在合作奠定了基礎(chǔ)。 根據(jù)這項合作備忘錄，ASML 和 SMEE 將探索就 ASML 光刻系統(tǒng)的特定模塊或半導體行業(yè)相關(guān)產(chǎn)品進行采購的可能性。此次MoU的簽署代表 ASML 繼日前與上海集成電路研發(fā)中心(ICRD)宣布合作之后，進一步深入?yún)⑴c中國的IC產(chǎn)業(yè)的發(fā)展。 光刻機被稱
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沉浸式光刻機供貨緊缺 臺系內(nèi)存芯片廠制程升級受阻
- 據(jù)內(nèi)存業(yè)者透露，由于著名光刻設(shè)備廠商ASML生產(chǎn)的NXT:1950i沉浸式光刻機目前供貨十分緊缺，因此臺系內(nèi)存芯片廠商收到所訂購的這種設(shè)備的時間 可能會再后延12個月之久，由于NXT:1950i沉浸式光刻機對這些廠商轉(zhuǎn)移到38nm以上級別制程至關(guān)重要，因此預計臺系內(nèi)存芯片廠商制程轉(zhuǎn)換的進度 會受到較大的影響。NXT:1950i 是荷蘭ASML公司最新開發(fā)的沉浸式光刻機，可用于制造12英寸32nm及以上級別制程的產(chǎn)品. 此前曾有報道稱 NXT:1950i的訂貨至到貨日期已經(jīng)被拉長到了將近12個月，
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