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          開始1-γ芯片制程開發(fā)?美光日本廠擬引入ASML光刻機(jī)

          作者: 時間:2023-05-18 來源:全球半導(dǎo)體觀察 收藏

          知情人士稱,美國科技公司準(zhǔn)備在日本廣島的工廠安裝荷蘭公司的先進(jìn)芯片制造設(shè)備EUV(極紫外),以制造下一代存儲芯片(DRAM)。而其也將獲得日本政府提供的約2000億日元(15億美元)的補(bǔ)貼。

          本文引用地址:http://yuyingmama.com.cn/article/202305/446738.htm

          日本經(jīng)濟(jì)產(chǎn)業(yè)大臣西村康稔之后證實(shí)了在日的進(jìn)一步投資。他指出,日本政府正與臺積電討論擴(kuò)大在日投資的可能性,也有意在廣島開始大規(guī)模生產(chǎn)先進(jìn)存儲芯片。

          今日(周四),日本首相岸田文雄會見了美光首席執(zhí)行官Sanjay Mehrotra在內(nèi)的芯片高管代表團(tuán),而有關(guān)芯片的詳細(xì)計(jì)劃可能在之后陸續(xù)宣布。

          自2013年以來,美光已經(jīng)在日本投資超過130億美元,其中包括去年宣布的



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