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          Intel宣布全新混合結(jié)合封裝:凸點(diǎn)密度猛增25倍

          作者: 時(shí)間:2020-08-17 來(lái)源:快科技 收藏

          的六大技術(shù)支柱中,技術(shù)和制程工藝并列,是基礎(chǔ)中的基礎(chǔ),這兩年也不斷展示自己的各種先進(jìn)技術(shù),包括Foveros、Co-EMIB、ODI、MDIO等等。

          本文引用地址:http://yuyingmama.com.cn/article/202008/417173.htm

          又宣布了全新的“混合結(jié)合”(Hybrid Bonding),可取代當(dāng)今大多數(shù)技術(shù)中使用的“熱壓結(jié)合”(thermocompression bonding)。

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          據(jù)介紹,混合結(jié)合技術(shù)能夠加速實(shí)現(xiàn)10微米及以下的凸點(diǎn)間距(Pitch),提供更高的互連密度、更小更簡(jiǎn)單的電路、更大的帶寬、更低的電容、更低的功耗(每比特不到0.05皮焦耳)。

          Intel目前的3D Foveros立體封裝技術(shù),可以實(shí)現(xiàn)50微米左右的凸點(diǎn)間距,每平方毫米集成大約400個(gè)凸點(diǎn),而應(yīng)用新的混合結(jié)合技術(shù),不但凸點(diǎn)間距能縮小到1/5,每平方毫米的凸點(diǎn)數(shù)量也能超過(guò)1萬(wàn),增加足足25倍。

          采用混合結(jié)合封裝技術(shù)的測(cè)試芯片已在2020年第二季度流片,但是Intel沒(méi)有披露未來(lái)會(huì)在什么產(chǎn)品上商用。

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          Foveros封裝的Lakefield



          關(guān)鍵詞: Intel 封裝 凸點(diǎn)密度

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