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          rf-cmos 文章 最新資訊

          標(biāo)準(zhǔn)有助于規(guī)范納米行業(yè)的秩序

          • 制定行業(yè)公認(rèn)的標(biāo)準(zhǔn)是研究納米技術(shù)必不可少的先期工作        就像1849年出現(xiàn)的加利福尼亞淘金熱一樣,納米技術(shù)的出現(xiàn)也帶來了巨大機(jī)遇和極大風(fēng)險(xiǎn)。正如在淘金熱時(shí)代出現(xiàn)了很多新技術(shù)、利益和挑戰(zhàn)一樣,人們對納米技術(shù)的探索也將不可避免地促使人們開發(fā)一些新工具突破納米關(guān)鍵技術(shù),抓住創(chuàng)造巨大財(cái) 富的機(jī)遇,但是也存在給環(huán)境、健康和安全帶來災(zāi)難性影響的可能性。盡管納米技術(shù)將毋庸置疑地形成很多爆炸性的技術(shù),催生很多新的研究領(lǐng)域,但是也可能對那些不了解
          • 關(guān)鍵字: 納米  CMOS  

          高k柵介質(zhì)中電荷俘獲行為的脈沖特征分析

          •        本文介紹了電荷俘獲的原理以及直流特征分析技術(shù)對俘獲電荷進(jìn)行定量分析的局限性。接下來,本文介紹了一種超快的脈沖I-V分析技術(shù),能夠?qū)哂锌焖偎矐B(tài)充電效應(yīng)(FTCE)的高k柵晶體管的本征(無俘獲)性能進(jìn)行特征分析。 先進(jìn)CMOS器件高k柵技術(shù)的進(jìn)展        近年來,高介電常數(shù)(高k)材料,例如鉿氧化物(HfO2)、鋯氧化物(ZrO2)、氧化鋁(Al2O3)以及
          • 關(guān)鍵字: 脈沖  CMOS  

          SuVolta全新CMOS平臺有效降低集成電路功耗

          •   SuVolta日前宣布推出PowerShrink?低功耗平臺。該平臺可以有效降低CMOS集成電路2倍以上的功耗,同時(shí)保持性能并提高良率。SuVolta和富士通半導(dǎo)體有限公司(Fujitsu Semiconductor Limited)今天還共同宣布,富士通已獲得授權(quán)使用SuVolta創(chuàng)新型PowerShrink?低功耗技術(shù)。   
          • 關(guān)鍵字: SuVolta  CMOS  

          安森美半導(dǎo)體擴(kuò)充產(chǎn)品陣容推出緊湊150 mA器件

          • ?????? 6月9日,應(yīng)用于高能效電子產(chǎn)品的首要高性能硅方案供應(yīng)商安森美(ON Semiconductor)半導(dǎo)體推出五款超小封裝的低壓降(LDO) 線性穩(wěn)壓器,強(qiáng)化用于智能手機(jī)及其他便攜電子應(yīng)用的現(xiàn)有產(chǎn)品陣容。這些新器件基于互補(bǔ)金屬氧化物半導(dǎo)體(CMOS)技術(shù),均能提供150毫安(mA)的輸出電流。   NCP4682和NCP4685超低電流穩(wěn)壓器的供電電流僅為典型值1微安(μA),輸出電壓范圍為1.2伏(V)至3.3 V。
          • 關(guān)鍵字: 安森美  CMOS  NCP4682  

          Microsemi成功收購AML Communications

          • 致力實(shí)現(xiàn)智能、安全,以及互連世界的半導(dǎo)體技術(shù)領(lǐng)先供應(yīng)商─美高森美公司(Microsemi Corporation,紐約納斯達(dá)克交易所代號:MSCC)宣布,公司已于2011年5月27日完成對AML Communications, Inc. (OTCBB:AMLJ) 之收購。
          • 關(guān)鍵字: Microsemi  RF  

          PowerShrink平面CMOS平臺有效降低IC功耗

          • SuVoltaPowerShrink低功耗平臺支持電壓調(diào)節(jié)降低功耗50%以上并能保持IC性能.
          • 關(guān)鍵字: SuVolta  CMOS  PowerShrink  

          0.18 μm CMOS帶隙基準(zhǔn)電壓源的設(shè)計(jì)

          • 基準(zhǔn)電壓源可廣泛應(yīng)用于A/D、D/A轉(zhuǎn)換器、隨機(jī)動(dòng)態(tài)存儲器、閃存以及系統(tǒng)集成芯片中。使用0.18 μm CMOS工藝設(shè)計(jì)了具有高穩(wěn)定度、低溫漂、低輸出電壓為0.6 V的CMOS基準(zhǔn)電壓源。
          • 關(guān)鍵字: 設(shè)計(jì)  電壓  基準(zhǔn)  CMOS  0.18  

          選擇RF和微波濾波器的八大竅門

          • 在不了解會受到何種損害的情況下,具備高深的數(shù)字電子知識的設(shè)計(jì)師發(fā)現(xiàn),當(dāng)需要給無線器件確定濾波器參數(shù)時(shí)...
          • 關(guān)鍵字: RF  微波  濾波器  

          基于OFDM的WiMAX RF系統(tǒng)設(shè)計(jì)

          • 固定WiMAX標(biāo)準(zhǔn)基于正交頻分復(fù)用(OFDM) 技術(shù),使用256個(gè)副載波; 該標(biāo)準(zhǔn)支持1.75~ 28 MHz范圍內(nèi)的多個(gè)信道帶寬,同時(shí)支持多種不同的調(diào)制方案,包括BPSK、QPSK、16QAM 和64QAM?! ? 主要芯片完成功能
              本設(shè)備采用
          • 關(guān)鍵字: 系統(tǒng)  設(shè)計(jì)  RF  WiMAX  OFDM  基于  

          RF CO2激光電源類別與原理

          • 關(guān)于激光頭的準(zhǔn)電感諧振技術(shù)。為了使輸入射頻沿激光器長度,電壓分布均勻,加入一對電感并聯(lián)在諧振腔上下電極之間。這樣,由于電感負(fù)導(dǎo)納的補(bǔ)償作用,使激光器沿長度上的駐波比大大下降,失配角小于9°,理論計(jì)算結(jié)果電壓不均勻度小于3%。
          • 關(guān)鍵字: 類別  原理  電源  激光  CO2  RF  

          ADI新推出高動(dòng)態(tài)范圍、單通道混頻器系列樹立性能水平新標(biāo)桿

          • AnalogDevices,Inc.(紐約證券交易所代碼:ADI),全球領(lǐng)先的高性能信號處理解決方案供應(yīng)商,最新推出五款針對衛(wèi)星通信、無線基站、點(diǎn)到點(diǎn)無線電鏈路、儀器儀表和軍事設(shè)備等高動(dòng)態(tài)范圍應(yīng)用的單通道RF混頻器系列,從而擴(kuò)充了其 RF IC 產(chǎn)品系列。
          • 關(guān)鍵字: ADI  RF  

          EMI/RF吸波材料性能比較

          • 隨著工程師們需要遵循的輻射電磁干擾(EMI)規(guī)范的不斷增多,市場上開始出現(xiàn)各種類型的EMI吸波材料。一般而言,市場上所提供的這些吸波材料的厚度很薄并具有很好的外形柔韌性,再加上其背面帶有粘合劑的設(shè)計(jì)使得我們能
          • 關(guān)鍵字: EMI  RF  吸波材料  性能比較    

          SoC發(fā)射器簡化RF遙控器設(shè)計(jì)

          • 最常見的遙控器使用紅外(IR)技術(shù),這主要是因?yàn)榧t外元件成本相對較低,但這些基于IR的控制器有許多缺陷,包括需要在視角范圍內(nèi)、操作角度限制、傳輸距離短、與IR LED相關(guān)的反射和高電流消耗等,這些缺陷大大縮短了電池壽命。RF遙控器解決了這些問題,并且由于可帶給用戶更好的使用體驗(yàn),產(chǎn)品也日益豐富。此外,技術(shù)改進(jìn)正在使得RF-IR元件之間的價(jià)格差越來越小。
          • 關(guān)鍵字: 遙控器  設(shè)計(jì)  RF  簡化  發(fā)射器  SoC  

          一種恒跨導(dǎo)CMOS運(yùn)算放大器的設(shè)計(jì)

          • 摘要:設(shè)計(jì)了一種寬帶軌對軌運(yùn)算放大器,此運(yùn)算放大器在3.3 V單電源下供電,采用電流鏡和尾電流開關(guān)控制來實(shí)現(xiàn)輸入級總跨導(dǎo)的恒定。為了能夠處理寬的電平范圍和得到足夠的放大倍數(shù),采用用折疊式共源共柵結(jié)構(gòu)作為前
          • 關(guān)鍵字: CMOS  運(yùn)算放大器    

          用于EMI/RF吸波材料性能比較

          • 本文設(shè)計(jì)加工了一種簡單的表面電流減少測試裝置,通過它可以在實(shí)驗(yàn)室環(huán)境下對不同EMI吸波材料的吸波性能進(jìn)行相對的比較。盡管吸波材料所引起的表面電流的減少量并不完全等于預(yù)期的EMI減少量的測量值,但該方法可以很快的確定在特定頻率范圍內(nèi)具備最佳吸波性能的材料。
          • 關(guān)鍵字: 比較  性能  材料  EMI/RF  用于  
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          rf-cmos介紹

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