日本a√视频在线,久久青青亚洲国产,亚洲一区欧美二区,免费g片在线观看网站

        <style id="k3y6c"><u id="k3y6c"></u></style>
        <s id="k3y6c"></s>
        <mark id="k3y6c"></mark>
          
          

          <mark id="k3y6c"></mark>

          首頁  資訊  商機(jī)   下載  拆解   高校  招聘   雜志  會展  EETV  百科   問答  電路圖  工程師手冊   Datasheet  100例   活動中心  E周刊閱讀   樣片申請
          EEPW首頁 >> 主題列表 >> 3nm finfet

          3nm finfet 文章 最新資訊

          三星即將宣布3nm以下工藝路線圖 挑戰(zhàn)硅基半導(dǎo)體極限

          • 在半導(dǎo)體晶圓代工市場上,臺積電TSMC是全球一哥,一家就占據(jù)了全球50%以上的份額,而且率先量產(chǎn)7nm等先進(jìn)工藝,官方表示該工藝領(lǐng)先友商一年時間,明年就會量產(chǎn)5nm工藝。在臺積電之外,三星也在加大先進(jìn)工藝的追趕,目前的路線圖已經(jīng)到了3nm工藝節(jié)點(diǎn),下周三星就會宣布3nm以下的工藝路線圖,緊逼臺積電,而且會一步步挑戰(zhàn)摩爾定律極限。
          • 關(guān)鍵字: 三星  臺積電  3nm  

          3nm爭奪戰(zhàn)已打響

          • 科技的發(fā)展有時超出了我等普通人的想象,今年臺積電才開始量產(chǎn)7nm,計(jì)劃明年量產(chǎn)5nm,這不3nm又計(jì)劃在2022年實(shí)現(xiàn)量產(chǎn),這樣的大踏步前進(jìn)可以說是競爭爭奪激烈的結(jié)果、也是科技快速發(fā)展的結(jié)果。
          • 關(guān)鍵字: 3nm  臺積電  

          Mentor 擴(kuò)展解決方案以支持 TSMC 5nm FinFET 和 7nm FinFET Plus 工藝技術(shù)

          •   Mentor, a Siemens business 今日宣布 Mentor Calibre? nmPlatform 和 Analog FastSPICE? (AFS?) Platform 獲得 TSMC 的 7nm FinFET Plus 和最新版本的 5nm FinFET 工藝的認(rèn)證。此外,Mentor 還繼續(xù)擴(kuò)展 Xpedition? Package Designer 和 Xpedition Substrate Integrator 產(chǎn)品的功能,以支持 TSMC 的高級封裝產(chǎn)品?! SMC 設(shè)
          • 關(guān)鍵字: Mentor  FinFET   

          格芯擴(kuò)展FinFET產(chǎn)品新特性為全面實(shí)現(xiàn)未來智能系統(tǒng)

          •   格芯是全球領(lǐng)先的全方位服務(wù)半導(dǎo)體代工廠,為世界上最富有靈感的科技公司提供獨(dú)一無二的設(shè)計(jì)、開發(fā)和制造服務(wù)。2018年9月25日, 格芯在其年度全球技術(shù)大會(GTC)上,繼在300mm平臺上面向下一代移動應(yīng)用推出8SW RF SOI客戶端芯片后,格芯宣布計(jì)劃在其14/12nm FinFET產(chǎn)品中引入全套新技術(shù),這是公司加強(qiáng)差異化投資的全新側(cè)重點(diǎn)之一,功能豐富的半導(dǎo)體平臺為下一代計(jì)算應(yīng)用提供具有競爭力的性能和可擴(kuò)展性。新工藝技術(shù)旨在為快速增長市場(如超大規(guī)模數(shù)據(jù)中心和自動駕駛汽車)應(yīng)用提供更好的可擴(kuò)展性和性
          • 關(guān)鍵字: 格芯  FinFET  

          三星已成全球芯片霸主,規(guī)劃芯片制程路線:2022年要上3nm

          •   5月28日,三星電子在位于美國的 2018 年三星半導(dǎo)體代工論壇上,公布其全面的芯片制程技術(shù)路線圖,目前已經(jīng)更新至 3nm 工藝?! ?jù)介紹,三星的 7nm LPP 將成為該公司首款使用EUV(極紫外光刻)方案的半導(dǎo)體工藝技術(shù)。以往三星的制程工藝都會分為 LPE 和 LPP 兩代,不過 7nm 算是個例外,沒有 LPE。之前已公布,三星 7nm LPP 將于 2018 年下半年量產(chǎn),2019 年的高通和三星芯片有望采用該制造工藝?! ∪潜硎?,在 7nm LPP 之后推出的 5nm LPE 將為 So
          • 關(guān)鍵字: 三星  芯片  3nm  

          從7nm到3nm GAA,三星為何激進(jìn)地采用EUV?

          • 半導(dǎo)體業(yè)界為EUV已經(jīng)投入了相當(dāng)龐大的研發(fā)費(fèi)用,因此也不難理解他們急于收回投資。雖然目前還不清楚EUV是否已經(jīng)100%準(zhǔn)備就緒,但是三星已經(jīng)邁出了實(shí)現(xiàn)大規(guī)模量產(chǎn)的第一步。
          • 關(guān)鍵字: 三星  EUV  3nm   

          GF宣布將在既有14/12納米FinFET制程節(jié)點(diǎn)基礎(chǔ)上,向外擴(kuò)展應(yīng)用領(lǐng)域

          •   自從28納米制程節(jié)點(diǎn)向下轉(zhuǎn)進(jìn)以來,就剩下四大晶圓代工廠商持續(xù)鞏固先進(jìn)制程:臺積電、三星電子(SamsungElectronics)、GlobalFoundries(GF)以及英特爾(Intel)。但在這四大廠商轉(zhuǎn)進(jìn)16/14納米先進(jìn)制程過程中,又以GF歷經(jīng)最多波折,但最終,GF尋求向三星取得14納米制程授權(quán),更成功將該節(jié)點(diǎn)制程落實(shí)在自家晶圓廠。隨后包括超微(AMD)旗下RyzenCPU與PolarisGPU系列產(chǎn)品的成功,均可說是GF旗下晶圓廠14納米制程終于達(dá)到良率開出順利,并且改善制程足以提供更明
          • 關(guān)鍵字: GF  FinFET  

          格芯終止7nm FinFET工藝研發(fā),接下來要發(fā)大招?

          • 和其他晶圓廠一樣,格芯正在迎來各種各樣的挑戰(zhàn)。
          • 關(guān)鍵字: 格芯  7nm  FinFET  

          FinFET對動態(tài)功耗的影響

          • 現(xiàn)在主要的代工廠都在生產(chǎn)FinFET晶體管,這些FinFET以創(chuàng)紀(jì)錄的速度實(shí)現(xiàn)了從設(shè)計(jì)到現(xiàn)貨產(chǎn)品的轉(zhuǎn)變。FinFET的發(fā)展普及一直都比較穩(wěn)定,因?yàn)榕c平面器件相
          • 關(guān)鍵字: FinFET  動態(tài)功耗  

          臺積電計(jì)劃2022年量產(chǎn)3nm芯片

          •   臺積電在8月14日宣布,公司董事會已批準(zhǔn)了一項(xiàng)約45億美元的資本預(yù)算。未來將會使用該預(yù)算來修建新的晶圓廠,而現(xiàn)在中國臺灣媒體報(bào)道稱,臺積電計(jì)劃2020年開始建造3nm制程的晶圓廠,希望能夠在2022年實(shí)現(xiàn)3nm制程芯片的量產(chǎn)。  根據(jù)臺灣《經(jīng)濟(jì)日報(bào)》的報(bào)道,臺灣相關(guān)部門通過了「臺南科學(xué)園區(qū)二期基地開發(fā)暨原一期基地變更計(jì)劃環(huán)差案」,這項(xiàng)議案主要是為了臺積電全新的晶圓制造廠而打造?! ?jù)悉,臺積電計(jì)劃2020年開始建造最新的3nm制程的晶圓廠,同時最快可以在2022年實(shí)現(xiàn)對于3nm制程芯片的量產(chǎn)。目前臺積
          • 關(guān)鍵字: 臺積電,3nm,芯片  

          中芯國際14納米FinFET制程開始客戶導(dǎo)入,Q2營收同比增長18.6%

          •   9日中芯國際集成電路制造有限公司公布截至2018年6月30日止第二季度的綜合經(jīng)營業(yè)績。中芯國際第二季度銷售額為8.907億美元,與上一季度環(huán)比增長7.2%,與去年同比增長18.6%。欣喜的是,14納米FinFET制程開始進(jìn)入到客戶導(dǎo)入階段,可以預(yù)見量產(chǎn)目標(biāo)已不遙遠(yuǎn)。14納米FinFET制程如果正式量產(chǎn),對于中芯國際來說將是一個歷史性的時刻。不僅可以確保其遙遙領(lǐng)先于國內(nèi)的競爭對手,更是可以拉近其和國際芯片大廠之間的距離?! 「鶕?jù)中芯國際財(cái)報(bào),第二季度不含技術(shù)授權(quán)收入(授權(quán)收入)確認(rèn)的銷售額為8.379億
          • 關(guān)鍵字: 中芯國際  14納米  FinFET  

          利用FinFET優(yōu)勢的六種方式

          • 為了能夠充分發(fā)揮好工藝制程的功耗,性能和面積(PPA)上的優(yōu)勢, 必須要求我們的設(shè)計(jì)人員將有相關(guān)工藝知識的設(shè)計(jì)戰(zhàn)略和優(yōu)化的IP相結(jié)合,其中包括了標(biāo)準(zhǔn)
          • 關(guān)鍵字: FinFET  synopsys  

          FinFET布局和布線要經(jīng)受的重大考驗(yàn)

          • 隨著高級工藝的演進(jìn),電路設(shè)計(jì)團(tuán)隊(duì)在最先進(jìn)的晶片上系統(tǒng)內(nèi)加載更多功能和性能的能力日益增強(qiáng)。與此同時,他們同樣面臨許多新的設(shè)計(jì)挑戰(zhàn)。多重圖案拆分
          • 關(guān)鍵字: FinFET  布線  

          三星侵犯大學(xué)專利,賠償金或高達(dá)4億美元

          •   近日,德克薩斯州聯(lián)邦陪審團(tuán)作出一項(xiàng)裁決:三星電子因侵犯韓國技術(shù)學(xué)院一項(xiàng)專利技術(shù),需向后者支付賠償金或?qū)⒏哌_(dá)4億美元?! ?jù)了解,韓國技術(shù)學(xué)院曾向法院提起訴訟,指控三星電子侵犯了其鰭片晶體管技術(shù)(FinFET)制程工藝相關(guān)的專利技術(shù)。然而三星向陪審團(tuán)表示,它與韓國技術(shù)學(xué)院合作開發(fā)了這項(xiàng)技術(shù),并否認(rèn)侵犯了相關(guān)專利技術(shù)。三星還對這項(xiàng)專利的有效性提出了質(zhì)疑。就在三星對此不屑一顧時,其對手英特爾公司開始向這項(xiàng)技術(shù)的發(fā)明者取得許可授權(quán),圍繞三星是否侵權(quán)的力量博弈發(fā)生了改變,三星才開始重視這個事件的嚴(yán)重性?! ?jù)悉
          • 關(guān)鍵字: 三星  FinFET  

          掌控芯片制造的“火候”,看懂小處用心的美好

          • 小小的芯片,看似簡單,卻充滿了科技之道。只有真的懂得制造工藝與應(yīng)用原理,了解每一顆芯片生產(chǎn)背后的艱辛,才能看懂制造商從小處用心的美好。
          • 關(guān)鍵字: 芯片  FinFET  
          共315條 13/21 |‹ « 11 12 13 14 15 16 17 18 19 20 » ›|
          關(guān)于我們 - 廣告服務(wù) - 企業(yè)會員服務(wù) - 網(wǎng)站地圖 - 聯(lián)系我們 - 征稿 - 友情鏈接 - 手機(jī)EEPW
          Copyright ?2000-2015 ELECTRONIC ENGINEERING & PRODUCT WORLD. All rights reserved.
          《電子產(chǎn)品世界》雜志社 版權(quán)所有 北京東曉國際技術(shù)信息咨詢有限公司
          備案 京ICP備12027778號-2 北京市公安局備案:1101082052    京公網(wǎng)安備11010802012473