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          18a 制程 文章 最新資訊

          英特爾版 X3D 技術(shù)將至:18A-PT 芯片工藝官宣,14A 節(jié)點(diǎn)即將推出

          • 4 月 30 日消息,英特爾新任 CEO 陳立武今日在美國加州圣何塞舉行的 Intel Foundry Direct Connect2025 活動中亮相,概述了公司在晶圓廠代工項目上的進(jìn)展。陳立武宣布,公司現(xiàn)在正在與即將推出的 14A 工藝節(jié)點(diǎn)(1.4nm 等效)的主要客戶進(jìn)行接觸,這是 18A 工藝節(jié)點(diǎn)的后續(xù)一代。英特爾已有幾個客戶計劃流片 14A 測試芯片,這些芯片現(xiàn)在配備了公司增強(qiáng)版的背面電源傳輸技術(shù),稱為PowerDirect。陳立武還透露,公司的關(guān)鍵 18A 節(jié)點(diǎn)現(xiàn)在處于風(fēng)險生產(chǎn)階段,預(yù)計今年晚
          • 關(guān)鍵字: 英特爾  X3D  18A-PT  芯片工藝  14A  晶圓廠代工  1.4nm  

          日本政府?dāng)M2025年成Rapidus股東,修法已通過

          • 據(jù)日本共同通信社和日經(jīng)新聞報道,日本政府計劃在2025年下半年對半導(dǎo)體企業(yè)Rapidus出資1,000億日元,并成為其股東。這一計劃的法律基礎(chǔ)已經(jīng)確立,日本參議院于4月25日通過了《信息處理促進(jìn)法》等修正案,正式為相關(guān)支持鋪平道路。日本經(jīng)濟(jì)產(chǎn)業(yè)省(經(jīng)產(chǎn)?。┲鞴艿男畔⑻幚硗七M(jìn)機(jī)構(gòu)(IPA)將新增金融業(yè)務(wù),向民間金融機(jī)構(gòu)為下一代半導(dǎo)體企業(yè)提供債務(wù)擔(dān)保。這一機(jī)制將使日本政府能夠通過IPA對Rapidus進(jìn)行出資,出資對象將通過公開招募選定,預(yù)計為Rapidus。經(jīng)產(chǎn)省已在2025年度預(yù)算中預(yù)留了1,000億日元
          • 關(guān)鍵字: 制程  Rapidus  晶圓代工  

          臺積電高歌猛進(jìn),二線廠商業(yè)績承壓

          • 作為全球晶圓代工產(chǎn)業(yè)的龍頭,2024年臺積電全年合并營收達(dá)900億美元,同比增長30%;稅后凈利達(dá)365億美元,同比大幅增長35.9%。毛利率達(dá)到56.1%,營業(yè)利益率達(dá)45.7%,皆創(chuàng)歷史新高。2025年首季,臺積電的營運(yùn)表現(xiàn)遠(yuǎn)超市場預(yù)期。據(jù)晶圓代工業(yè)內(nèi)人士透露,臺積電首季毛利率達(dá)58.8%,且預(yù)計第二季毛利率有望介于57%-59%的高位區(qū)間;美元營收有望實(shí)現(xiàn)環(huán)比增長13%、同比增長近40%。與之形成鮮明對比的是,二線代工廠首季營運(yùn)并未出現(xiàn)明顯回暖跡象。具體來看,聯(lián)電2025年首季合并營收為新臺幣578
          • 關(guān)鍵字: 臺積電  市場分析  EDA  制程  

          英特爾18A工藝雄心遇挫?旗艦2納米芯片據(jù)稱將外包給臺積電生產(chǎn)

          • 財聯(lián)社4月23日訊(編輯 馬蘭)據(jù)媒體報道,英特爾正委托臺積電使用其2納米制程生產(chǎn)Nova Lake CPU??紤]到英特爾自己擁有18A工藝,且一直宣傳該工藝勝過臺積電的2納米技術(shù),這份代工合同可能透露出一些引人深思的訊號。英特爾聲稱將為客戶提供最好的產(chǎn)品,而這可能是其將Nova Lake生產(chǎn)外包給臺積電的一個原因。但業(yè)內(nèi)也懷疑,既然18A工藝已經(jīng)投入了試生產(chǎn),英特爾將生產(chǎn)外包可能是由于產(chǎn)能需求的驅(qū)動,而不是性能或回報等方面的問題。還有傳言稱,英特爾可能采取雙源戰(zhàn)略:既使用臺積電的2納米技術(shù)生產(chǎn)旗艦產(chǎn)品,
          • 關(guān)鍵字: 英特爾  18A  工藝  2納米芯片  臺積電  

          英特爾將在 2025 VLSI 研討會上詳解 18A 制程技術(shù)優(yōu)勢

          • 4 月 21 日消息,2025 年超大規(guī)模集成電路研討會(VLSI Symposium)定于 2025 年 6 月 8 日至 12 日在日本京都舉行,這是半導(dǎo)體領(lǐng)域的頂級國際會議。VLSI 官方今日發(fā)布預(yù)覽文檔,簡要介紹了一系列將于 VLSI 研討會上公布的論文,例如 Intel 18A 工藝技術(shù)細(xì)節(jié)。相較于 Intel 3 制程,Intel 18A 節(jié)點(diǎn)在性能、能耗及面積(PPA)指標(biāo)上均實(shí)現(xiàn)顯著提升,將為消費(fèi)級客戶端產(chǎn)品與數(shù)據(jù)中心產(chǎn)品帶來實(shí)質(zhì)性提升。英特爾聲稱,在相同電壓(1.1V)和復(fù)雜度條件下,I
          • 關(guān)鍵字: 英特爾  2025 VLSI  18A 制程技術(shù)  

          AMD拿下臺積電2nm工藝首發(fā)

          • 4月15日,AMD宣布其新一代Zen 6 EPYC處理器「Venice」正式完成投片(tape out),成為業(yè)界首款采用臺積電2nm(N2)制程技術(shù)的高效能運(yùn)算(HPC)處理器,預(yù)計將于明年上市。這也是AMD首次拿下臺積電最新制程工藝的首發(fā),而以往則都是由蘋果公司的芯片首發(fā)。N2是臺積電首個依賴于全環(huán)繞柵極晶體管(Gate All Around,GAA)的工藝技術(shù),預(yù)計與N3(3nm)相比,可將功耗降低24%至35%,或者在相同運(yùn)行電壓下的性能提高15%,同時晶體管密度是N3的1.15倍,這些提升主要得
          • 關(guān)鍵字: AMD  N2  制程  臺積電  

          英特爾宣布 18A 工藝節(jié)點(diǎn)已進(jìn)入風(fēng)險生產(chǎn)

          • 英特爾的代工服務(wù)高級副總裁 Kevin O'Buckley 在 2025 年愿景大會上宣布了公司 18A 工藝節(jié)點(diǎn)的進(jìn)展。?在 2025 年愿景會議上,英特爾今天宣布已進(jìn)入其 18A 工藝節(jié)點(diǎn)的風(fēng)險生產(chǎn),這是一個關(guān)鍵的生產(chǎn)里程碑,標(biāo)志著該節(jié)點(diǎn)現(xiàn)在處于小批量測試制造運(yùn)行的早期階段。英特爾的代工服務(wù)高級副總裁 Kevin O'Buckley 宣布了這一消息,因?yàn)橛⑻貭柤磳⑼耆瓿善洹八哪晡鍌€節(jié)點(diǎn)”(5N4Y) 計劃,該計劃最初由前首席執(zhí)行官帕特·基辛格 (Pat Gelsinger)
          • 關(guān)鍵字: 英特爾  18A  制程  

          英特爾18A制程搶單臺積電,瞄準(zhǔn)英偉達(dá)和博通

          • 臺積電為全球晶圓代工龍頭,追兵英特爾來勢洶洶,瑞銀分析師Timothy Arcuri最新報告指出,英特爾在新任執(zhí)行長陳立武帶領(lǐng)下,著重發(fā)展半導(dǎo)體設(shè)計與代工能力,正積極爭取英偉達(dá)與博通下單18A制程。Timothy Arcuri表示,英偉達(dá)比博通更有機(jī)會下單英特爾晶圓代工,可能用于游戲產(chǎn)品,但效能與功耗仍是英偉達(dá)考慮的重點(diǎn)。 另一方面,英特爾透過改善先進(jìn)封裝技術(shù),縮小與臺積電的差距,英特爾EMIB接近臺積電的CoWoS-L希望能吸引以英偉達(dá)為首的大客戶支持。此外,英特爾與聯(lián)電的合作相當(dāng)順利,最快可能在202
          • 關(guān)鍵字: 英特爾  18A  臺積電  英偉達(dá)  博通  

          中科院成功研發(fā)全固態(tài)DUV光源技術(shù)!

          • 3月24日消息,中國科學(xué)院(CAS)研究人員成功研發(fā)突破性的固態(tài)深紫外(DUV)激光,能發(fā)射 193 納米的相干光(Coherent Light),與當(dāng)前被廣泛采用的DUV曝光技術(shù)的光源波長一致。相關(guān)論壇已經(jīng)于本月初被披露在了國際光電工程學(xué)會(SPIE)的官網(wǎng)上。目前,全球主要的DUV光刻機(jī)制造商如ASML、Canon和Nikon,均采用氟化氬(ArF)準(zhǔn)分子激光技術(shù)。這種技術(shù)通過氬(Ar)和氟(F)氣體混合物在高壓電場下生成不穩(wěn)定分子,釋放出193納米波長的光子。這些光子以短脈沖、高能量形式發(fā)射,輸出功
          • 關(guān)鍵字: 制程  DUV光刻機(jī)  

          Intel首批18A工藝晶圓投產(chǎn),大批量生產(chǎn)可能比預(yù)期更早

          • Intel新CEO陳立武上任之際,Intel工廠傳出了捷報,位于亞利桑那州的新晶圓廠的Intel 18A工藝開始初始批量生成,新工藝的量產(chǎn)計劃有望提早實(shí)現(xiàn)。Intel工程經(jīng)理Pankaj Marria在LinkedIn的帖子中以“雄鷹已著陸”為喻,強(qiáng)調(diào)這一節(jié)點(diǎn)開發(fā)是先進(jìn)制程研發(fā)的重要里程碑。從中我們了解到Intel 18A節(jié)點(diǎn)已開始批量生產(chǎn)首批晶圓,供客戶進(jìn)行測試與評估。這標(biāo)志著英特爾18A節(jié)點(diǎn)的工藝設(shè)計套件(PDK)正式進(jìn)入1.0版本,客戶已開始利用該套件進(jìn)行定制芯片的測試。Intel 18
          • 關(guān)鍵字: Intel  18A  晶圓  

          即使18A得到提升,英特爾也會繼續(xù)使用臺積電的服務(wù)

          • 盡管英特爾希望減少對臺積電制造服務(wù)的使用,但該公司將在可預(yù)見的未來繼續(xù)從這家總部位于中國臺灣的代工廠訂購芯片,一位高級管理人員昨天在一次技術(shù)會議上表示。英特爾的宏偉計劃是在英特爾代工內(nèi)部生產(chǎn)盡可能多的產(chǎn)品,但由于這可能不是最佳策略,它目前正在評估其產(chǎn)品的百分比應(yīng)該在臺積電生產(chǎn)?!拔艺J(rèn)為一年前我們在談?wù)摫M快將[TSMC的使用量]降至零,但這已經(jīng)不是策略了,”英特爾企業(yè)規(guī)劃和投資者關(guān)系副總裁John Pitzer在摩根士丹利技術(shù)、媒體和電信會議上說。“我們認(rèn)為,至少與臺積電合作的一些晶圓總是好的。他們是一個很
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          2納米制程競爭 臺積電穩(wěn)步向前或芒刺在背?

          • 在半導(dǎo)體制程技術(shù)的競賽中,2納米制程成為各大廠商爭奪的下一個重要里程碑。 臺積電(TSMC)正在積極研發(fā)2納米制程,于2024年開始試產(chǎn),并計劃于2025年實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)。 臺積電將在2納米節(jié)點(diǎn)引入GAA(環(huán)繞柵極)納米片晶體管技術(shù),這是從傳統(tǒng)的FinFET轉(zhuǎn)向新一代晶體管架構(gòu)的重大轉(zhuǎn)變。 臺積電也計劃興建2納米晶圓廠,以滿足未來的生產(chǎn)需求。臺積電在制程技術(shù)上一直保持領(lǐng)先,擁有穩(wěn)定的制造流程和廣泛的客戶基礎(chǔ)。 與蘋果、AMD、高通等大客戶的緊密合作,使其在市場上具有強(qiáng)大的影響力。 且需面對來自三星和英特爾在GA
          • 關(guān)鍵字: 2納米  制程  臺積電  

          計劃上半年流片,英特爾18A制程準(zhǔn)備就緒

          • 近日,英特爾宣布,其18A制程節(jié)點(diǎn)(1.8納米)已經(jīng)準(zhǔn)備就緒,并計劃在今年上半年開始設(shè)計定案。該制程將導(dǎo)入多項先進(jìn)半導(dǎo)體技術(shù)。18A制程相較于英特爾3nm制程,可將芯片密度提升30%,并提高每瓦性能約15%。英特爾計劃將18A制程應(yīng)用于即將推出的Panther Lake筆電處理器與Clearwater Forest服務(wù)器CPU,這兩款產(chǎn)品預(yù)計將于年底前上市。18A制程的一大突破是PowerVia背面供電技術(shù)。該技術(shù)透過將粗間距金屬層與凸塊移至芯片背面,并采用納米級硅穿孔(through-silicon
          • 關(guān)鍵字: 英特爾  18A  制程  

          英特爾18A節(jié)點(diǎn)SRAM密度與臺積電持平 背面功率傳輸是一大優(yōu)勢

          • 英特爾在國際固態(tài)電路會議 (ISSCC) 上公布了半導(dǎo)體制造領(lǐng)域的一些有趣進(jìn)展,展示了備受期待的英特爾 18A 工藝技術(shù)的功能。演示重點(diǎn)介紹了 SRAM 位單元密度的顯著改進(jìn)。PowerVia 系統(tǒng)與 RibbonFET (GAA) 晶體管相結(jié)合,是英特爾節(jié)點(diǎn)的核心。該公司展示了其高性能 SRAM 單元的堅實(shí)進(jìn)展,實(shí)現(xiàn)了從英特爾 3 的 0.03 μm2 減小到英特爾 18A 的 0.023 μm2。高密度單元也顯示出類似的改進(jìn),縮小到 0.021 μm2。這些進(jìn)步分別代表了 0.77 和
          • 關(guān)鍵字: 英特爾  18A  SRAM  臺積電  

          16/14nm也受限 但擋不住中國崛起!光刻機(jī)采購金額首次大幅下降

          • 2月13日消息,雖然受到美國制裁,但中國一直是以光刻機(jī)為主的晶圓/芯片制造設(shè)備的最大采購國,而根據(jù)半導(dǎo)體研究機(jī)構(gòu)TechInsights的最新報告,2025年中國半導(dǎo)體廠商的采購將首次出現(xiàn)大幅下降。報告稱,2024年,中國對半導(dǎo)體制造設(shè)備的采購額為410億美元,而在2025年預(yù)計會降至380億美元,降幅超過7%。TechInsights認(rèn)為,這一方面是美國的出口管制政策越發(fā)收緊,另一方面是中國半導(dǎo)體本身不斷取得突破,同時芯片供應(yīng)超過了需求。30億美元的下降很大,不過380億美元的采購規(guī)模,仍然讓中國穩(wěn)居世
          • 關(guān)鍵字: 12nm  芯片代工  芯片制造  制程  
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