電子束光刻機(jī) 文章最新資訊

中國(guó)首臺(tái)商用電子束光刻機(jī)揭幕

8月13日，我國(guó)首臺(tái)自主研發(fā)的商用電子束光刻機(jī)“羲之”在浙江余杭正式揭幕。根據(jù)杭州政府網(wǎng)站的報(bào)道，這臺(tái)機(jī)器是浙江大學(xué)技術(shù)轉(zhuǎn)化基地簽署的第一個(gè)項(xiàng)目之一。它已經(jīng)在客戶現(xiàn)場(chǎng)進(jìn)行了測(cè)試，精度與主流國(guó)際設(shè)備相當(dāng)。這一里程碑標(biāo)志著量子芯片研發(fā)現(xiàn)在有了自己的“中國(guó)刻刀?！毖邪l(fā)團(tuán)隊(duì)的一名成員解釋說(shuō)，西馳專注于量子芯片和下一代半導(dǎo)體研究的核心階段。它使用高能電子束在硅基板上“手繪”電路，實(shí)現(xiàn)0.6納米的精度和8納米的線寬。其設(shè)計(jì)可以靈活修改，無(wú)需掩模，就像用納米級(jí)的畫筆直接在芯片上繪畫一樣——特別適合芯片開發(fā)早期階段所需的
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近日，一些媒體報(bào)道了英國(guó)部署近日，一些媒體報(bào)道了英國(guó)部署電子束光刻機(jī)相關(guān)的新聞，并號(hào)稱打破 ASML 的 EUV 技術(shù)壟斷。部分報(bào)道甚至號(hào)稱這是全球第二臺(tái)電子束光刻機(jī)，能繞過(guò) ASML。實(shí)際上當(dāng)前沒(méi)有任何信息表面該電子束曝光機(jī)可以用于 5nm 制程的芯片量產(chǎn)的光刻環(huán)節(jié)。在這些媒體的報(bào)道中，英國(guó)似乎已經(jīng)拳打 ASML，腳踢 EUV 了。那事實(shí)真的如此嗎？實(shí)際情況到底如何呢？英國(guó)部署全球第二臺(tái) 200kV 電子束光刻設(shè)備實(shí)際上，英國(guó)南安普敦大學(xué)宣布的是，成功開設(shè)了日本以外首個(gè)分辨
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