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          SK海力士沖擊16層堆疊內(nèi)存:1平方毫米打10萬個孔

          作者: 時間:2020-02-13 來源:新浪科技 收藏

          宣布,已經(jīng)與Xperi Corp旗下子公司簽訂新的專利與技術授權協(xié)議,獲得了后者 2.5D/3D互連技術的授權。

          本文引用地址:http://yuyingmama.com.cn/article/202002/409842.htm

          是一種專利的裸片-晶圓(die-wafer)混合鍵合互連技術,每平方毫米的面積里可以容納10萬個到100萬個互連開孔,孔間距最小只有1微米,相比每平方毫米最多625個互連開孔的傳統(tǒng)銅柱互連技術,可大大提高傳輸帶寬。

          DBIUltra使用化學鍵合來連接不同的互聯(lián)層,也不需要銅柱和底層填充,因此不會增加高度,從而大大降低整體堆疊高度,釋放空間,可將8層堆疊翻番到16層堆疊,獲得更大容量。

          雖然它要使用新的工藝流程,但是良品率更高,也不需要高溫,而高溫正是影響良品率的關鍵因素。

          和其他下一代互連技術類似,也靈活支持2.5D、3D整合封裝,還能集成不同尺寸、不同工藝制程的IP模塊,因此不但可用來制造DRAM、3DS、HBM等內(nèi)存芯片,也可用于高集成度的CPU、GPU、ASIC、FPGA、SoC。

          比如3D堆棧內(nèi)存方案,可以是4層的DRAM,可以是4/8/12/16層的HBM2/HBM3并在底部整合邏輯電路。

          比如3D集成方案,可以上方是4-16層堆疊HBM、下方是CPU/GPU/FPGA/SoC等邏輯單元。

          比如2.5D集成方案,可以在基板上一邊是4-16層堆疊HBM并通過邏輯電路接入基板,另一邊則是CPU/GPU/FPGA/SoC等邏輯單元直接以DBI Ultra互連的方式接入基板。

          還未透露會將DBI Ultra封裝技術用在哪里,但是DRAM、HBM顯然是最佳選擇。



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