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          三星更新最新技術(shù)線路圖,7nm芯片明年量產(chǎn)

          作者: 時間:2018-09-11 來源:網(wǎng)絡 收藏

            在芯片工藝上沒能及時量產(chǎn),導致大量的訂單都被臺積電給奪走了,這也讓損失慘重。

          本文引用地址:http://yuyingmama.com.cn/article/201809/391715.htm

            不過仍舊在繼續(xù)努力研發(fā)的工藝,近期在日本舉辦的三星鑄造工廠論壇2018年會上,三星透漏了關(guān)于工藝的進程,表示會在接下來的幾個季度大規(guī)模量產(chǎn)。

            除了確定7nm工藝的如期生產(chǎn)外,三星HIA宣布了新增8nm的LPU的改良版,也就是低功耗版,相比10nm版本,8nm減少了10%的芯片面積和10%的功耗。

            不過,隨著芯片技術(shù)的發(fā)展,7nm的工藝肯定不會滿足手機廠商的需求,所以還需要跟高的工藝制程。

            因此,三星還有更完善的方案,表示在2019你那利用FinFET技術(shù),進行4/5nm的工藝研發(fā),在2020年使用最新研發(fā)的GAAFET技術(shù)方案,開展3nm工藝的試產(chǎn)。

            這樣的話,在以后的5G芯片當中,蘋果,高通和華為的訂單很有可能由三星主要負責,不過這就要看三星的進展速度了,雖然在7nm工藝失利了,不過相信可以在3/4/5nm的制程中重新奪回市場。



          關(guān)鍵詞: 三星 7nm

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