電子束光刻系統(tǒng)的知名廠商Vistec Lithography公司近日宣布他們與中國武漢華中科技大學光電工程學院簽署了戰(zhàn)略合作伙伴協(xié)議。武漢華中科技大學是大陸國家級重點院校之一，而 Vistec Lithography則是電子束光刻設(shè)備的領(lǐng)先廠商，按協(xié)議規(guī)定，兩家將在納米光刻技術(shù)研究和教學領(lǐng)域開展合作。

　　這次合作的核心是Vistec公司提供給華中科技大學的EBPG5000pES電子束光刻系統(tǒng)，裝備這套系統(tǒng)之后，華中科技大學在教學，科研以及對外合作方面的實力將如虎添翼。華中科技大學稱：“裝備這種新型光刻系統(tǒng)之后，我們在光電領(lǐng)域的技術(shù)實力將大為增強.”

　　電子束光刻設(shè)備可用于制作光掩膜或進行無需光掩膜的電子束直寫光刻，直接在半導體材料上用電子束刻制所需的電路版圖。