荷蘭政府宣布了限制某些先進半導(dǎo)體設(shè)備出口的新規(guī)定，這些規(guī)定將于9月1日生效。具體而言，荷蘭政府將要求先進芯片制造設(shè)備的公司在出口之前須獲得許可證。

ASML在其官網(wǎng)發(fā)表聲明稱，該公司未來出口其先進的浸潤式DUV光刻系統(tǒng)（即TWINSCAN NXT:2000i及后續(xù)浸潤式系統(tǒng)）時，將需要向荷蘭政府申請出口許可證。而

ASML強調(diào)，該公司的EUV系統(tǒng)的銷售此前已經(jīng)受到限制。

據(jù)ASML官網(wǎng)提供的信息，該公司目前在售的主流浸沒式DUV光刻機產(chǎn)品共有三款，分別是：TWINSCAN NXT:1980Di、TWINSCAN NXT:2000i、TWINSCAN NXT:2050i。

阿斯麥3月曾表示，預(yù)計2000i和2050i這兩款產(chǎn)品會受到荷蘭政府的出口限制。再對比阿斯麥今天的回應(yīng)來看，TWINSCAN NXT:1980Di這款浸潤式DUV光刻機并不在限制范圍內(nèi)。

ASML官網(wǎng)上關(guān)于這一臺TWINSCAN NXT:1980Di的介紹，其中在分辨率方面，寫到是大于等于38nm（可以支持到7nm左右），而這是指一次曝光的分辨率，事實上光刻機是可以進行多次曝光的。

理論上NXT:1980Di依然可以達到7nm，只是步驟更為復(fù)雜，成本更高，良率可能也會有損失，晶圓廠用這一臺光刻機，大多是生產(chǎn)14nm及以上工藝的芯片，很少去生產(chǎn)14nm以下的工藝，因為良率低，成本高，沒什么競爭力。