日本a√视频在线,久久青青亚洲国产,亚洲一区欧美二区,免费g片在线观看网站

        <style id="k3y6c"><u id="k3y6c"></u></style>
        

        <s id="k3y6c"></s>
        <mark id="k3y6c"></mark>
          

          <mark id="k3y6c"></mark>
          


          
	
  	
          
	
          
		首頁　 
		資訊　 
		商機 　
		下載　 
		拆解 　
		高校　 
		招聘 　
		雜志　 
		會展　 
		EETV　 
		百科 　
		問答　 
		電路圖　 
		工程師手冊 　
		Datasheet　
		100例 　
		活動中心　 
		E周刊閱讀 　
		樣片申請
	
          




          
	EEPW首頁 >> 
	主題列表 >> 
	hyper-na euv
          

          
	
          
    	
          
    	  	
          
              	
          
                	
          hyper-na euv 文章
                  最新資訊  
                  
          
                
          
                                
          
                  

                                
          
                    
          可穿戴與IoT用DC/DC：如何實現(xiàn)納安級消耗電流？ 　
          
                                                            
                                        
            
                    	
          • 可穿戴等市場發(fā)展快。DC/DC轉換器成為影響這些產品電池壽命的重要器件。ROHM的BD70522GUL超輕載消耗電流只有180 nA，通過電路、布局和工藝實現(xiàn)。
            • 
                    	                        
          • 關鍵字：
                        可穿戴  DC/DC  降壓型  輕載  nA  201804                          
            • 
                   	
          
                    
          
                
          
                                
          
                    
          ASML載具供應商家登精密談中國EUV的發(fā)展，面臨諸多挑戰(zhàn)
          
                                                            
            
                    	
          • 　　載具對于曝光機發(fā)揮保護、運送和存儲光罩等功能十分重要。家登精密多年來致力于研究曝光機載具，并為全球最大的半導體設備制造商ASML提供載具相關技術。
　　我們主要研究EUV的配套技術，例如EUV的載具以及EUV的配套光罩，是7nm向5nm進階的突破口。隨著5nm技術的升級，EUV的重要性逐漸凸顯出來，而載具的研究也越發(fā)緊迫。過去幾年，家登精密一直專心做一件事，那就是載具的配套研究。去年，我們的技術產品已經達到國際先進水平，這是一個值得自豪的成績。未來，7nm工藝逐漸向5nm升級，技術的研究會越來越困難
            • 
                    	                        
          • 關鍵字：
                        ASML  EUV                          
            • 
                   	
          
                    
          
                
          
                                
          
                    
          三星7nm EUV工廠破土動工：新驍龍將在這里誕生
          
                                                            
                                        
            
                    	
          • 2017年，三星在半導體事業(yè)中的投資達到了260億美元，創(chuàng)下歷史新高，這主要得益于其存儲芯片的巨大需求。
            • 
                    	                        
          • 關鍵字：
                        三星  EUV                          
            • 
                   	
          
                    
          
                
          
                                
          
                    
          臺積電要出售？張忠謀：不慌，價好就賣
          
                                                            
                                        
            
                    	
          • 在前段時間，臺積電創(chuàng)始人張忠謀在即將退休的時候卻意外表示，其實中國臺灣地區(qū)的企業(yè)本來就不應該死守，假如價錢夠好把臺積電賣掉也無妨。
            • 
                    	                        
          • 關鍵字：
                        臺積電  EUV                          
            • 
                   	
          
                    
          
                
          
                                
          
                    
          日媒：三星最高利潤背后的危機感
          
                                                            
                                        
            
                    	
          • 　　韓國三星電子2017財年(截至2017年12月)合并營業(yè)利潤創(chuàng)下歷史新高，但其危機感正在加劇。三星1月31日發(fā)布的財報顯示，營業(yè)利潤同比增長83%，其中僅半導體業(yè)務盈利就增至上年的2.6倍，約合3.5萬億日元，顯著依賴市場行情，因此危機感增強。3大主要部門面臨著半導體增長放緩等課題。三星能否在新經營團隊的領導下，將智能手機和電視機的自主技術培育成新的收益源? 2018財年將成為試金石。
　　三星整體的營業(yè)利潤為53.65萬億韓元，時隔4年再創(chuàng)歷史新高。其中，半導體部門的服務器和智能手機存儲銷量堅挺，
            • 
                    	                        
          • 關鍵字：
                        三星  EUV                          
            • 
                   	
          
                    
          
                
          
                                
          
                    
          EUV微影前進7nm制程，5nm仍存在挑戰(zhàn)
          
                                                            
                                        
            
                    	
          • 　　EUV微影技術將在未來幾年內導入10奈米(nm)和7nm制程節(jié)點。 不過，根據(jù)日前在美國加州舉辦的ISS 2018上所發(fā)布的分析顯示，實現(xiàn)5nm芯片所需的光阻劑仍存在挑戰(zhàn)。
　　極紫外光(extreme ultraviolet;EUV)微影技術將在未來幾年內導入10奈米(nm)和7nm制程節(jié)點。 不過，根據(jù)日前在美國加州舉辦的年度產業(yè)策略研討會(Industry Strategy Symposium;ISS 2018)所發(fā)布的分析顯示，實現(xiàn)5nm芯片所需的光阻劑(photoresist)仍存在挑戰(zhàn)。
            • 
                    	                        
          • 關鍵字：
                        EUV  7nm                          
            • 
                   	
          
                    
          
                
          
                                
          
                    
          4nm大戰(zhàn),三星搶先導入將EUV,研發(fā)GAAFET
          
                                                            
            
                    	
          • 　　晶圓代工之戰(zhàn)，7nm制程預料由臺積電勝出，4nm之戰(zhàn)仍在激烈廝殺。 Android Authority報道稱，三星電子搶先使用極紫外光(EUV)微影設備，又投入研發(fā)能取代「鰭式場效晶體管」(FinFET)的新技術，目前看來似乎較占上風。
　　Android Authority報導，制程不斷微縮，傳統(tǒng)微影技術來到極限，無法解決更精密的曝光顯像需求，必須改用波長更短的EUV， 才能準確刻蝕電路圖。 5nm以下制程，EUV是必備工具。 三星明年生產7nm時，就會率先采用EUV，這有如讓三星在6nm以下的競
            • 
                    	                        
          • 關鍵字：
                        4nm  EUV                          
            • 
                   	
          
                    
          
                
          
                                
          
                    
          ?沒有EUV 半導體強國之夢就「難產」？
          
                                                            
            
                    	
          • 一時之間，仿佛EUV成為了衡量中國半導體設備產業(yè)發(fā)展水平的標桿，沒有EUV就無法實現(xiàn)半導體強國之夢？
            • 
                    	                        
          • 關鍵字：
                        EUV  5nm                          
            • 
                   	
          
                    
          
                
          
                                
          
                    
          EUV或將決定半導體產業(yè)方向，通快加緊布局
          
                                                            
                                        
            
                    	
          • 　　近日，TRUMPF公司CTO及股東Peter Leibinger在談到令人著迷的激光創(chuàng)新時重點提及極紫外光刻，也就是我們常說的EUV。他認為，EUV令人著迷的原因是其極富挑戰(zhàn)性及對世界的重要影響。

　　Peter Leibinger
　　“如果我們無法實現(xiàn)EUV突破，摩爾定律將失效” Peter Leibinger表示：“其影響范圍不僅僅是芯片行業(yè)，智能手機產業(yè)乃至整個電子裝備產業(yè)都將改變運作方式。”
　　什么是EUV?
　　極紫外光刻(Ex
            • 
                    	                        
          • 關鍵字：
                        TRUMPF  EUV                          
            • 
                   	
          
                    
          
                
          
                                
          
                    
          EUV面臨的問題和權衡
          
                                                            
                                        
            
                    	
          • 　　新的光刻工具將在5nm需要，但薄膜，阻抗和正常運行時間仍然存在問題。
　　Momentum正在應用于極紫外(EUV)光刻技術，但這個談及很久的技術可以用于批量生產之前，仍然有一些主要的挑戰(zhàn)要解決。
　　EUV光刻技術 - 即將在芯片上繪制微小特征的下一代技術 – 原來是預計在2012年左右投產。但是幾年過去了，EUV已經遇到了一些延遲，將技術從一個節(jié)點推向下一個階段。
　　如今，GlobalFoundries，英特爾，三星和臺積電相互競爭，將EUV光刻插入到7nm和/或5nm的大容量
            • 
                    	                        
          • 關鍵字：
                        EUV                          
            • 
                   	
          
                    
          
                
          
                                
          
                    
          Brewer Science 為領先制造廠商提供關鍵性的半導體材料
          
                                                            
            
                    	
          • 　　Brewer Science, Inc. 很榮幸宣布參加 2017 年的 SEMICON Taiwan。公司將與業(yè)界同仁交流臺灣半導體制造趨勢的見解，內容涵蓋前端和后端的材料，以及次世代制造的流程步驟?！　〗袢盏南M性電子產品、網(wǎng)絡、高效能運算 (HPC) 和汽車應用皆依賴封裝為小型尺寸的半導體裝置，其提供更多效能與功能，同時產熱更少且操作時更省電。透過摩爾定律推動前端流程開發(fā)，領先的代工和整合組件制造商(IDM
            • 
                    	                        
          • 關鍵字：
                        晶圓  EUV                           
            • 
                   	
          
                    
          
                
          
                                
          
                    
          張忠謀：臺積電南京廠明年下半量產
          
                                                            
            
                    	
          • 　　臺積電(2330)南京廠今日上午正式舉行進機典禮，由董事長張忠謀親自主持，大陸中央及地方貴賓云集，顯示對臺積電南京投資案重視。
　　海思及聯(lián)發(fā)科將是首批客戶
　　張忠謀表示，大陸集成電路在中國制造，臺積電可助一臂之力。 南京廠預計2018年下半年量產，陸媒預估中國海思及聯(lián)發(fā)科(2454)將是首批客戶。
　　工程師已陸續(xù)由臺灣進駐
　　今年上半年臺積電工程師已經陸續(xù)由臺灣進駐南京廠協(xié)助建廠事宜，8月16奈米大型機臺陸續(xù)透過華航包機，由臺灣運往南京祿口機場，而南京市政府為了迎接重量級貴賓，加快浦口
            • 
                    	                        
          • 關鍵字：
                        臺積電  EUV                          
            • 
                   	
          
                    
          
                
          
                                
          
                    
          臺積30周年：半導體八巨頭將同臺，庫克沒來
          
                                                            
            
                    	
          • 　　晶圓代工龍頭臺積電將在今年10月23日盛大舉辦「臺積公司30周年慶」論壇，以及于國家音樂廳舉辦音樂會。 臺積電30周年慶活動將由當天下午舉行的半導體論壇揭開序幕，由董事長張忠謀親自主持，將邀請包括高通、博通、輝達(NVIDIA)、ADI、ASML、ARM、蘋果等重量級客戶及合作伙伴， 與張忠謀一起暢談半導體產業(yè)未來10年展望。
　　臺積電今年歡度30周年，活動當天將盛大舉辦「臺積公司30周年慶」論壇，由董事長張忠謀親自主持，與談人包括了NVIDIA執(zhí)行長黃仁勛、高通執(zhí)行長Steve Mollenko
            • 
                    	                        
          • 關鍵字：
                        臺積電  EUV                          
            • 
                   	
          
                    
          
                
          
                                
          
                    
          7nm大戰(zhàn)在即 買不到EUV光刻機的大陸廠商怎么辦？
          
                                                            
                                        
            
                    	
          • 對于7nm制程工藝，三星和臺積電兩大晶圓代工領域巨頭都早已入手布局以便爭搶IC設計業(yè)者們的訂單。
            • 
                    	                        
          • 關鍵字：
                        7nm  EUV                          
            • 
                   	
          
                    
          
                
          
                                
          
                    
          KLA-Tencor宣布推出針對光學和EUV 空白光罩的全新FlashScanTM產品線
          
                                                            
                                        
            
                    	
          • 　　今天，KLA-Tencor公司宣布推出全新的FlashScanTM空白光罩*檢測產品線。自從1978年公司推出第一臺檢測系統(tǒng)以來，KLA-Tencor一直是圖案光罩檢測的主要供應商，新的FlashScan產品線宣告公司進入專用空白光罩的檢驗市場。光罩坯件制造商需要針對空白光罩的檢測系統(tǒng)，用于工藝開發(fā)和批量生產過程中的缺陷檢測，此外，光罩制造商(“光罩廠”)為了進行光罩原料檢測，設備監(jiān)控和進程控制也需要購買該檢測系統(tǒng)。 FlashScan系統(tǒng)可以檢查針對光學或極紫外(EUV)光刻的空白光罩。　
            • 
                    	                        
          • 關鍵字：
                        KLA-Tencor  EUV                           
            • 
                   	
          
                    
          
                
          
                                                

                
          
	                
          
		                	
          
	
          
	共237條
	13/16		|‹
			«
																																																																																7																8																9																10																11																12																13																14																15																16							»
			
	
          
		                
          
	               	
          
                
          
        	
          
            
          
        
          
	
          
	
	
          

          

          
        		關于我們 - 
        		廣告服務 - 
        		企業(yè)會員服務 - 
        		網(wǎng)站地圖 - 
        		聯(lián)系我們 - 
        		征稿 - 
        		友情鏈接 - 
        		手機EEPW
        		
          
        		Copyright ?2000-2015 ELECTRONIC ENGINEERING & PRODUCT WORLD. All rights reserved.
          
        		《電子產品世界》雜志社 版權所有 北京東曉國際技術信息咨詢有限公司
          
      			備案 京ICP備12027778號-2 北京市公安局備案：1101082052    京公網(wǎng)安備11010802012473