晶體管的尺寸不斷減小主要得益于以下幾個關(guān)鍵技術(shù)和方法：

1. 光刻技術(shù)

光刻技術(shù)是芯片制造中最重要的步驟之一。它利用光將電路圖案轉(zhuǎn)印到硅片上。隨著技術(shù)的進(jìn)步，使用更短波長的光（如極紫外光，EUV）可以實現(xiàn)更高的分辨率，允許制造更小的結(jié)構(gòu)。

2. 金屬氧化物半導(dǎo)體場效應(yīng)晶體管的優(yōu)化

MOSFET是現(xiàn)代微處理器中最常用的晶體管類型。隨著材料和工藝的創(chuàng)新，MOSFET的柵極氧化層得到了進(jìn)一步縮小，從而減小了開關(guān)時的功耗和延遲。

3. 三維結(jié)構(gòu)（FinFET和其他技術(shù)）

FinFET是一種新型晶體管結(jié)構(gòu)，相比于傳統(tǒng)的平面MOSFET，它有一個垂直的“鰭片”結(jié)構(gòu)，增加了有效的柵極控制。這種設(shè)計允許在更小的面積上實現(xiàn)更多的晶體管，且提高了電流驅(qū)動能力。

4. 材料創(chuàng)新

新材料（如石墨烯、硅碳化物等）和黑磷等2D材料的出現(xiàn)，使得晶體管在更小尺寸下仍能保持良好的性能。

5. 多重浸潤和其他先進(jìn)工藝

多重浸潤等先進(jìn)的制造工藝允許在單一掩模下實現(xiàn)復(fù)雜的圖案，從而壓縮晶體管的尺寸。

6. 納米技術(shù)

納米技術(shù)的應(yīng)用使得能夠在原子或分子尺度上構(gòu)建和操作電子元件，從而使晶體管的尺寸進(jìn)一步減小。

7. 整體系統(tǒng)集成

通過將多個功能集成到一個芯片內(nèi)，降低了對個別組件的空間需求，從而推動晶體管尺寸的進(jìn)一步縮小。

8. 電子器件設(shè)計優(yōu)化

使用新的電路設(shè)計和架構(gòu)（如低功耗設(shè)計）來最大限度地提高功效，使晶體管在體積較小的情況下仍能有效工作。

9. 蝕刻技術(shù)

干法蝕刻和濕法蝕刻技術(shù)允許更精確的材料去除和結(jié)構(gòu)形成，有助于實現(xiàn)更小尺寸的晶體管。

晶體管尺寸的減小是材料科學(xué)、納米技術(shù)、制造工藝和設(shè)計優(yōu)化等多方面技術(shù)進(jìn)步的結(jié)合結(jié)果。盡管面臨許多挑戰(zhàn)，但科學(xué)家和工程師們?nèi)栽诓粩嗵剿餍碌姆椒▉硗苿舆@一進(jìn)程。