euv設(shè)備 文章 最新資訊
SK海力士引入全球首臺High-NA EUV設(shè)備
- 據(jù)SK海力士官方消息，2025年9月3日，該公司在韓國利川M16工廠成功引進了業(yè)界首款量產(chǎn)型高數(shù)值孔徑極紫外光刻機（High-NA EUV），并舉行了設(shè)備入廠慶祝儀式。此次引進的設(shè)備為荷蘭ASML公司開發(fā)的TWINSCAN EXE:5200B，是全球首款量產(chǎn)型High-NA EUV設(shè)備。相比現(xiàn)有EUV設(shè)備（NA 0.33），其光學(xué)性能（NA 0.55）提升了40%，能夠繪制精密度高達(dá)1.7倍的電路圖案，同時將芯片集成度提升2.9倍。這一技術(shù)突破將顯著推動半導(dǎo)體制造向更微細(xì)化和高集成度方向發(fā)展。SK海力士自
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2010決勝年 ASML 主攻38納米、EUV設(shè)備
- 全球最大半導(dǎo)體微顯影設(shè)備業(yè)者ASML表示，目前客戶訂單增加相當(dāng)多，但主是來自半導(dǎo)體業(yè)者制程微縮而非產(chǎn)能擴充的需求，半導(dǎo)體業(yè)者仍持續(xù)微縮半導(dǎo)體制程，摩爾定律預(yù)料將持續(xù)延續(xù)。以目前ASML最先進的浸潤式微顯影機種來看，新一代的機種NXT 1950i 也已于2009年下半出貨，未來將快速增加出貨，同時深紫外光(EUV)也至少囊括5套客戶訂單，對ASML來說2010年將是極重要的一年。 ASML NXT技術(shù)平臺資深經(jīng)理Frank van de Mast指出，XT1900Hi的下一代機種NXT 1950i
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