Toppan宣布28nm光刻掩膜準(zhǔn)備就緒 通過IBM認(rèn)證
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Toppan Printing公司在同IBM的合作下，開發(fā)出新的光刻掩膜制造技術(shù)，可用于制造32nm和28nm掩膜。
本文引用地址：http://yuyingmama.com.cn/article/93871.htm該公司稱，這些掩膜在日本Asaka工廠制成，通過了IBM的認(rèn)證。
Toppan從45nm節(jié)點就開始和IBM合作，去年雙方簽署了32nm掩膜技術(shù)的最后階段的合作協(xié)議，以及22nm掩膜的合作開發(fā)協(xié)議。
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