據(jù)媒體報道，3月5日，ASML發(fā)布2024年度報告，首席執(zhí)行官克里斯托弗·福凱（Christophe Fouquet）表示，如果展望ASML的未來增長，光刻技術無疑仍然是摩爾定律的主要驅(qū)動力之一，相信這一點在未來許多年里依然成立。

與此同時，二維收縮（2D shrink）正變得越來越困難。這并不完全是由于光刻技術的局限性，而是因為我們幾乎達到了邏輯和存儲器客戶所使用的晶體管的極限。為了繼續(xù)在二維收縮方面取得進展，需要在架構(gòu)和器件上進行創(chuàng)新。這意味著需要進行三維前道整合（3D front-end integration），而這將帶來增長機會——因為三維整合技術依賴于鍵合（Bonding），而這又需要一體化光刻技術（holistic lithography）?？死锼雇懈ァじP強調(diào)：“我認為，三維整合將成為二維收縮日益重要的補充技術或技術組合。”