350nm，俄羅斯光刻機制造完成
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5月25日消息，據(jù)外媒報道稱，俄羅斯首臺光刻機已經(jīng)制造完成并正在進(jìn)行測試。俄羅斯聯(lián)邦工業(yè)和貿(mào)易部副部長瓦西里-什帕克指出，該設(shè)備可確保生產(chǎn)350nm（0.35μm）的芯片。
本文引用地址：http://yuyingmama.com.cn/article/202405/459251.htm
圖片來源：塔斯社報道截圖
公開資料顯示，350納米尺寸芯片在當(dāng)代較為落后，但是仍然可以應(yīng)用于汽車、能源和電信等多個行業(yè)。該光刻機的研制成功對于俄羅斯未來實現(xiàn)自主生產(chǎn)芯片具有里程碑意義。
圖片來源：全球半導(dǎo)體觀察制圖
目前，全球光刻機的主要玩家依舊以ASML、尼康、佳能三家為主。
據(jù)外媒公開消息，俄羅斯目前主有兩家主要的晶圓廠，分別是Mikron和Angstrem公司，前者提供65-250nm芯片制造能力，后者（2019年破產(chǎn)重組）提供90-250nm芯片制造，擁有8英寸晶圓廠，兩家都以提供軍用、航天和工業(yè)領(lǐng)域芯片產(chǎn)品為主。因此，預(yù)計新的國產(chǎn)光刻機設(shè)備將會供應(yīng)到兩家企業(yè)當(dāng)中。
俄羅斯接下來的目標(biāo)是在2026年制造可以支持130nm工藝的光刻機。之前俄羅斯表示，計劃到2026年實現(xiàn)65nm的芯片節(jié)點工藝，2027年實現(xiàn)28nm本土芯片制造，到2030年實現(xiàn)14nm國產(chǎn)芯片制造。
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