IT之家 10 月 14 日消息，佳能（Canon）公司近日發(fā)布新聞稿，開始銷售芯片生產(chǎn)設(shè)備 FPA-1200NZ2C，表示采用不同于復(fù)雜光刻技術(shù)的方案，可以制造 5 nm 芯片。

佳能表示這套生產(chǎn)設(shè)備的工作原理和行業(yè)領(lǐng)導(dǎo)者 ASML 不同，并非光刻，而更類似于印刷，沒有利用圖像投影的原理將集成電路的微觀結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)移到硅晶圓上。

這套設(shè)備可以應(yīng)用于最小 14 平方毫米的硅晶圓，從而可以生產(chǎn)相當于 5nm 工藝的芯片。

佳能表示會繼續(xù)改進和發(fā)展這套系統(tǒng)，未來有望用于生產(chǎn) 2nm 芯片。

IT之家注：納米印刷（Nanoprinted lithography）通常被認為是光學(xué)光刻的低成本替代品，SK 海力士和鎧俠等存儲芯片制造商過去曾嘗試過使用。鎧俠此前進行過測試，不過潛在客戶提出投訴，認為產(chǎn)品缺陷率較高，最后選擇放棄。