楷登電子(美國Cadence公司)今日正式發(fā)布針對7nm工藝的全新Virtuoso® 先進(jìn)工藝節(jié)點(diǎn)平臺。通過與采用7nm FinFET工藝的早期客戶展開緊密合作，Cadence成功完成了Virtuoso定制設(shè)計(jì)平臺的功能拓展，新平臺能幫助客戶管理由于先進(jìn)工藝所導(dǎo)致的更復(fù)雜的設(shè)計(jì)以及特殊的工藝效應(yīng)。新版Virtuoso先進(jìn)工藝平臺同樣支持所有主流FinFET先進(jìn)節(jié)點(diǎn)，性能已得到充分認(rèn)證;同時(shí)提高了7nm工藝的設(shè)計(jì)效率。

　　為了應(yīng)對7nm設(shè)計(jì)的眾多技術(shù)挑戰(zhàn)，Virtuoso先進(jìn)工藝平臺提供豐富的版圖設(shè)計(jì)功能，包括：支持多重曝光(MPT)的色彩感知的編輯功能、支持FinFET網(wǎng)格功能、及支持模塊生成器(ModGen)器件陣列編輯功能等多種高級編輯功能。同時(shí)，在電路設(shè)計(jì)流程中，客戶可以使用Spectre® APS仿真器、Virtuoso ADE產(chǎn)品套件和Virtuoso 原理圖編輯器執(zhí)行對多工藝邊界的蒙特卡洛分析(Monte Carlo Analysis)，從而加強(qiáng)電路設(shè)計(jì)的差異分析。

　　如需了解7nm工藝Virtuoso先進(jìn)工藝節(jié)點(diǎn)擴(kuò)展平臺的全新內(nèi)容，請參訪www.cadence.com/go/virtuosoadvancednode。

　　“作為移動(dòng)運(yùn)算的領(lǐng)軍企業(yè)之一，我們致力于以最高性能、最低功耗和最高密度實(shí)現(xiàn)創(chuàng)新的先進(jìn)工藝節(jié)點(diǎn)設(shè)計(jì)，”聯(lián)發(fā)科技(MediaTek)模擬設(shè)計(jì)與電路技術(shù)部總經(jīng)理Ching San Wu表示。“我們與Cadence長期開展密切合作，成功開發(fā)并部署了基于Virtuoso先進(jìn)工藝節(jié)點(diǎn)平臺的定制設(shè)計(jì)方法。采用Cadence針對7nm工藝專門開發(fā)的多項(xiàng)獨(dú)特功能，我們得以成功實(shí)現(xiàn)近期的流片。”

　　新版Virtuoso先進(jìn)工藝節(jié)點(diǎn)平臺的主要特色包括：

　　· 多重曝光和色彩感知版圖：新平臺為各種色彩感知“多重曝光”定制設(shè)計(jì)流程提供關(guān)鍵支持，符合7nm工藝的基準(zhǔn)要求，并助用戶提高設(shè)計(jì)生產(chǎn)力。

　　· ModGen器件陣列：提供與關(guān)鍵合作伙伴共同開發(fā)的模塊組，助設(shè)計(jì)師提高7nm工藝節(jié)點(diǎn)生產(chǎn)力，降低版圖復(fù)雜度。

　　· 自動(dòng)FinFET布局：支持自動(dòng)FinFET網(wǎng)格布局，全面簡化7nm工藝所需的基于顏色的FinFET設(shè)計(jì)方法。在充分了解7nm工藝限制條件的基礎(chǔ)上，Virtuoso先進(jìn)工藝節(jié)點(diǎn)平臺大幅簡化了版圖設(shè)計(jì)，并將7nm設(shè)計(jì)中常見錯(cuò)誤發(fā)生的可能性降至最低;從而使定制的數(shù)字和模擬模塊的版圖設(shè)計(jì)時(shí)間縮短最高達(dá)50%。

　　· 差異分析：支持針對FinFET技術(shù)的高性能蒙特卡洛分析和高西格瑪分析，可使總的仿真時(shí)間縮短至原時(shí)長的十分之一。

　　“經(jīng)過長期的創(chuàng)新實(shí)踐以及與業(yè)界領(lǐng)袖的戰(zhàn)略合作，Cadence已經(jīng)成為先進(jìn)工藝節(jié)點(diǎn)定制設(shè)計(jì)工具的頂尖供應(yīng)商，”Cadence高級副總裁兼定制IC和PCB事業(yè)部總經(jīng)理Tom Beckley表示。“通過與聯(lián)發(fā)科技等客戶的廣泛合作，我們降低7nm工藝設(shè)計(jì)成本的方法已獲得充分證實(shí)。我們的許多客戶都已使用Virtuoso先進(jìn)工藝節(jié)點(diǎn)平臺成功流片，交付量產(chǎn)。”