9月4日消息，據(jù)中國臺灣媒體報道，中國臺灣美光董事長盧東暉近日接受采訪時表示，美光有多達 65% 的 DRAM 產品在中國臺灣生產，其中臺日團隊一起研發(fā)新一代的 1-gamma 制程，是美光第 1 代采用極紫外光（EUV）的制程技術，將在 2025 年上半年先在臺中廠量產。

盧東暉表示，這一輪半導體景氣修正有很多“黑天鵝”事件一起發(fā)生，確實很嚴重，包括疫情和俄烏沖突，但好的企業(yè)就是在碰到危境時能夠沉著應對。美光這次領先示警半導體景氣要開始修正，并提前預做準備，如今終端客戶庫存不斷下降，市場將要探底，產能利用率見底回升；反觀韓國三星（Samsung）還要延長減產行動，他認為美光比起其他競爭者有更多優(yōu)勢。

盧東暉說，雖然目前尚未看到整個半導體產業(yè)景氣恢復，美光產能還未滿載，不過，DDR5需求越來越好，高帶寬內存（HBM）需求也慢慢變好。美光領先的HBM3和DDR5產品，在電競及生成式人工智能（AI）應用市場頗受歡迎，年度營運計劃正往好的方向調整。

他強調，中國臺灣和日本是美光非常重要的制造中心，美光有多達65%的DRAM產品在臺灣生產；繼日本廠于去年10月開始量產1-beta制程技術后，中國臺灣現(xiàn)在也將開始量產1-beta制程。

相較上一代的1-alpha制程，美光最新的1-beta制程功耗降低約15%，位元密度提升超過35%，每顆晶粒容量可達16Gb，盧東暉看好1-beta制程與DDR5組合的產品性能。

盧東暉進一步指出，中國臺灣與日本團隊一起研發(fā)新一代的1-gamma制程，是美光第一代采用極紫外光（EUV）的制程技術，進度還不錯，計劃在2025年上半年量產。美光現(xiàn)在只有在臺中有EUV的制造工廠，1-gamma制程勢必會先在臺中廠量產，日本廠未來也會導入EUV設備。

不過，EUV設備不可能只用一代，盧東暉表示，1-gamma之后的1-delta等幾代制程技術還會延續(xù)採用EUV。至于DRAM制程會微縮到何時，他認為目前沒有人會有答案。

盧東暉回想他在2000年加入英特爾（Intel）時，有人說65nm之后邏輯電路就到盡頭，不解他為何加入“夕陽工業(yè)”，如今臺積電已量產3nm制程。

盧東暉說，“不能低估人類的創(chuàng)新能力”，目前看得到還有一些空間，DRAM以后也可能轉到3D DRAM，美光還是可以繼續(xù)往前發(fā)展。

編輯：芯智訊-林子