在說EUV之前，讓我們先了解一下什么是光刻技術(shù)。

光刻技術(shù)從基本上來說是一個(gè)投影系統(tǒng)，將光線投射并穿透印有電路藍(lán)圖的光罩，利用光學(xué)原理將圖樣打在已涂布感光****劑的硅晶片上，進(jìn)行曝光。當(dāng)未曝光的部分被蝕刻移除后，圖樣就會(huì)顯露出來。

在光刻行業(yè)有一個(gè)規(guī)律，就是芯片廠在芯片上塞進(jìn)的結(jié)構(gòu)數(shù)量越多，芯片就越強(qiáng)大。進(jìn)而循著這條規(guī)律，所有芯片廠的目標(biāo)就是盡力縮小結(jié)構(gòu)尺寸。

這時(shí)候就要說到我們今天的話題——EUV了。

EUV，中文是極紫外光刻。它是光刻技術(shù)的一種。

EUV是現(xiàn)在最領(lǐng)先的光刻技術(shù)。它以波長為10~14納米的極紫外光作為光源，可使曝光波長一下子降到13.5納米。這一技術(shù)能夠讓芯片工藝擴(kuò)展到32nm以下。

這里提到的極紫外光。據(jù)悉，荷蘭ASML公司需要以每秒5萬次的頻率，對(duì)液態(tài)錫的液滴****高能激光束才能得到。

EUV光刻系統(tǒng)有兩個(gè)特點(diǎn)：

●可精確控制光束，其精度就好比從地球上發(fā)出的手電筒光線?？梢哉盏椒胖迷谠虑蛏系囊幻?0分歐元硬幣一樣。

●使用的鏡片需極度平攤。假設(shè)你要制作一個(gè)像德國般大小的鏡片，其最高凸起物必須低于1毫米高。

一套EUV光刻系統(tǒng)包含一個(gè)重達(dá)7600公斤的大型真空室，而一套EUV光刻系統(tǒng)有18萬公斤重。

*本文參考《EUV是什么？》，芯通社綜合整理