應用材料公司今天宣布全新推出Applied Varian VIISta® 900 3D系統(tǒng)。作為業(yè)內(nèi)領先的中電流離子注入設備，該系統(tǒng)專為2x納米以下節(jié)點的FinFET和3D NAND制程而開發(fā)，具有超凡的控制能力，可以幫助高性能、高密度的復雜3D器件實現(xiàn)器件性能優(yōu)化，降低可變性，提高良率，是應用材料公司在精密材料工程領域的又一重大突破。

　　VIISta 900 3D系統(tǒng)能有效提高離子束角度精度和束線形狀準確度，并且還能夠出色的控制離子劑量和均勻性，從而幫助客戶實現(xiàn)制程的可重復性，優(yōu)化器件性能。該系統(tǒng)采用獨特的熱注入技術和三重磁場結構，可通過降低缺陷率來進一步提高良率。憑借這些優(yōu)勢，VIISta 900 3D系統(tǒng)能勝任復雜3D結構生產(chǎn)中所需的精確離子注入。

　　應用材料公司維利安半導體設備事業(yè)部副總裁兼總經(jīng)理Gary Rosen表示：“為滿足消費者對移動設備日益上升的需求，芯片制造商致力于生產(chǎn)更高性能、更低功耗的設備，同時他們也面臨著工藝日趨復雜的挑戰(zhàn)。為此，我們針對3D結構專門開發(fā)了這款VIISta 900 3D離子注入機，通過實現(xiàn)最純凈、最精確的離子注入，提高設備性能和良率，幫助客戶應對最嚴峻的器件挑戰(zhàn)。”

VIISta 900 3D系統(tǒng)的一個最重要的創(chuàng)新就是Superscan 3技術，它可以借助獨特的離子束形狀控制能力，根據(jù)客戶需要提供精確、精準的劑量方案，能完成幾乎所有圖案，實現(xiàn)定制化的硅片劑量圖形。Superscan 3還能對非注入工藝中的變量進行校正，從而提高3D器件的性能和良率。此外，加上該系統(tǒng)對于生產(chǎn)率的提升以及其極高的產(chǎn)出率，可為客戶帶來顯著的成本優(yōu)勢。

　　VIISta 900 3D系統(tǒng)的推出進一步加強了應用材料公司在FinFET和3D NAND設備制造領域的領先優(yōu)勢，其高精度、低污染的性能表現(xiàn)尤其適用于CMOS圖像傳感器二極管和邏輯層的摻雜，因此它將會在移動計算領域有著日益廣泛的應用。

　　應用材料公司(納斯達克：AMAT)是全球領先的精密材料工程解決方案供應商。應用材料公司的創(chuàng)新設備、服務和軟件被廣泛應用于先進半導體芯片、平板顯示器和太陽能光伏產(chǎn)品制造產(chǎn)業(yè)。我們的技術使智能手機、平板電視和太陽能面板等創(chuàng)新產(chǎn)品以更普及、更具價格優(yōu)勢的方式惠及全球商界和普通消費者。欲了解更多信息，請訪問：www.appliedmaterials.com。