三星電子與約翰霍普金斯大學應用物理實驗室 （APL） 一起展示了下一代Peltier冷卻技術(shù)的進展。Peltier器件通過利用珀爾帖效應進行冷卻，其中向半導體施加電流會導致一側(cè)冷卻，而另一側(cè)會升溫。由于這種方法不依賴制冷劑，因此它正在成為傳統(tǒng)冷卻系統(tǒng)的一種有前途的環(huán)保替代方案。

通過首次利用新開發(fā)的薄膜 Peltier 半導體器件，并通過先進的納米工程技術(shù)進行增強，研究團隊成功創(chuàng)造并展示了高性能 Peltier 制冷機。

這種薄膜 Peltier 制冷機的冷卻效率超過了傳統(tǒng)蒸汽壓縮系統(tǒng)的冷卻效率，為下一代無制冷劑制冷機的商業(yè)化鋪平了道路。

與傳統(tǒng)的蒸汽壓縮技術(shù)相比，帕爾貼冷卻以更簡單的設(shè)計提供更快、更精確的溫度控制，使其適用于廣泛的行業(yè)，包括家用電器、半導體、醫(yī)療設(shè)備、汽車電子和數(shù)據(jù)中心。

在 Peltier 半導體器件中實現(xiàn)卓越的冷卻效率對于高性能 Peltier 冷卻技術(shù)的商業(yè)化至關(guān)重要。

三星和 APL 研究團隊通過引入新的薄膜半導體材料以及小型化和輕量化設(shè)計，將珀爾帖器件的效率提高了近 75%，從而實現(xiàn)了這一目標。

新開發(fā)的 Peltier 器件在資源效率和可制造性方面也具有顯著優(yōu)勢。該團隊證實，創(chuàng)新的制造工藝將所需的帕爾貼材料量大幅減少到典型體積的 1/1,000 左右，同時還簡化了生產(chǎn)步驟。這一突破提高了可擴展性并支持大規(guī)模生產(chǎn)，有望在成本效益和環(huán)境可持續(xù)性方面取得重大進步。

世界上第一臺采用納米薄膜技術(shù)的高性能帕爾貼制冷機代表著向無制冷劑冷卻的飛躍