根據(jù)新華社華盛頓8月8號消息，在美國《科學(xué)》雜志刊登一個報告中，中國研究人員在成電路的基本單元晶體管研究上取得突破，發(fā)明了一種名為半浮柵晶體管的新型基礎(chǔ)微電子器件，可讓數(shù)據(jù)擦寫更容易、迅速。據(jù)了解，這項發(fā)明將有助于我國掌握集成電路的核心技術(shù)，讓中國的芯片設(shè)計和制造能力在國際上去的更多的話語權(quán)。

　　負責該項目的復(fù)旦大學(xué)教授王鵬飛說：“國集成電路產(chǎn)業(yè)主要依靠引進和吸收國外成熟的技術(shù)，在微電子核心器件及集成工藝上缺乏核心技術(shù)。半浮柵晶體管的成功研制將有助我國掌握集成電路的核心技術(shù)，從而在芯片設(shè)計與制造上逐漸獲得更多話語權(quán)。”

　　根據(jù)王鵬飛教授介紹，金屬-氧化物-半導(dǎo)體場效應(yīng)晶體管(MOSFET)是目前集成電路中的主流器件，過去幾年的工藝進步，讓晶體管的尺寸不斷的縮小，越來越接近物理極限，這樣才迫切需求并催生出新的結(jié)構(gòu)和原理的晶體管，半浮柵晶體管是在MOSFET晶體管中內(nèi)嵌一個廣泛用于低功耗電路的裝置——隧穿場效應(yīng)晶體管(TFET)制成。它的優(yōu)勢在于體積可更小，結(jié)構(gòu)更簡單，讀寫速度更快，且一片這樣的晶體管的功效可比得上多塊MOSFET晶體管。