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          Lasertec護(hù)膜和掩膜雜質(zhì)粒子檢查設(shè)備

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          作者: 時(shí)間:2006-01-30 來(lái)源: 收藏
          日前宣布成功地推出了新型異物——PEGSIS P100。這個(gè)設(shè)備能與90nm甚至更小尺寸半導(dǎo)體器件設(shè)計(jì)規(guī)則的掩膜兼容,具有很高的檢查速率和靈敏度。將這個(gè)產(chǎn)品視為2006年之前的旗艦產(chǎn)品,計(jì)劃在2006年受理10部訂單。
          該設(shè)備不僅將檢測(cè)靈敏度提高到了4μm,還能通過(guò)明視場(chǎng)檢查進(jìn)行缺陷檢測(cè)。只要缺陷的種類清楚了,就能選擇合理的洗凈方法。今后幾個(gè)月內(nèi)還將配備可清除異物的選配功能,據(jù)介紹能夠當(dāng)場(chǎng)清除異物。包括掩膜搬運(yùn)等時(shí)間在內(nèi)護(hù)膜表面和掩膜背面的檢測(cè)時(shí)間不足10分鐘。


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