德國LED設(shè)備大廠AIXTRON AG指出，新一代MOCVD Platform AIX G5 HT系統(tǒng)已達(dá)成生產(chǎn)力目標(biāo)。

　　據(jù)悉，新系統(tǒng)在600 mbar以上的高壓下能以極高的速率完成高質(zhì)量的氮化鎵沉淀，產(chǎn)量超過前一代系統(tǒng)的1倍，氮化鎵/氮化銦鎵也有優(yōu)異的均一性。在無反應(yīng)爐烘培或替換任何零件的情況下，上述晶膜的生成在臺灣晶電廠區(qū)連續(xù)進(jìn)行。目前，此MOCVD反應(yīng)爐正要轉(zhuǎn)換至量產(chǎn)階段。