納米壓印光刻 文章 最新資訊
納米壓印光刻是否是半導(dǎo)體制造的未來一步？
- 在半導(dǎo)體制造的高科技世界中，在納米尺度上創(chuàng)建復(fù)雜圖案的能力至關(guān)重要。隨著對更小、更快、更高效的電子設(shè)備的需求不斷增長，對先進(jìn)光刻技術(shù)的需求也在增加。談到納米壓印光刻（NIL），這種方法承諾將詳細(xì)設(shè)計的圖案印在基板上?？萍季揞^佳能最近推出了其NIL工具，但專家質(zhì)疑它是否能真正挑戰(zhàn)極端紫外線（EUV）光刻術(shù)的主導(dǎo)地位。納米壓印光刻是如何工作NIL的核心是一個簡單的概念，盡管其執(zhí)行在技術(shù)上可能具有挑戰(zhàn)性。該過程涉及使用模具或模板在基板上物理“沖壓”出圖案。簡要過程如下：1. 創(chuàng)建一個具有納米級模式的模板。2.
- 關(guān)鍵字： 納米壓印光刻 半導(dǎo)體工藝制程
日本佳能推出納米壓印半導(dǎo)體制造設(shè)備
- 佳能于 10 月 13 日宣布，已將 FPA-1200NZ2C 商業(yè)化，這是一種納米壓印半導(dǎo)體制造系統(tǒng)，利用納米壓印光刻（NIL）技術(shù)實現(xiàn)尖端半導(dǎo)體電路的形成，并于當(dāng)天開始接受訂單。納米壓印半導(dǎo)體制造設(shè)備「FPA-1200NZ2C」傳統(tǒng)的投影曝光設(shè)備（例如 ArF 和 EUV）通過用穿過圖案掩模的光照射晶圓上的抗蝕劑來形成電路圖案，但使用 NIL 時，電路被印刷在掩模（模板）本身上。通過形成不規(guī)則形狀并將它們像郵票一樣壓在抗蝕劑上。通過從母版創(chuàng)建副本，可以多次使用掩碼，這具有降低設(shè)備成本的優(yōu)點。該公司的
- 關(guān)鍵字： 佳能 納米壓印光刻
| 共2條 1/1 1 |
納米壓印光刻介紹
您好，目前還沒有人創(chuàng)建詞條納米壓印光刻!
歡迎您創(chuàng)建該詞條，闡述對納米壓印光刻的理解，并與今后在此搜索納米壓印光刻的朋友們分享。 創(chuàng)建詞條
歡迎您創(chuàng)建該詞條，闡述對納米壓印光刻的理解，并與今后在此搜索納米壓印光刻的朋友們分享。 創(chuàng)建詞條
關(guān)于我們 -
廣告服務(wù) -
企業(yè)會員服務(wù) -
網(wǎng)站地圖 -
聯(lián)系我們 -
征稿 -
友情鏈接 -
手機(jī)EEPW
Copyright ?2000-2015 ELECTRONIC ENGINEERING & PRODUCT WORLD. All rights reserved.
《電子產(chǎn)品世界》雜志社 版權(quán)所有 北京東曉國際技術(shù)信息咨詢有限公司
京ICP備12027778號-2 北京市公安局備案：1101082052 京公網(wǎng)安備11010802012473
Copyright ?2000-2015 ELECTRONIC ENGINEERING & PRODUCT WORLD. All rights reserved.
《電子產(chǎn)品世界》雜志社 版權(quán)所有 北京東曉國際技術(shù)信息咨詢有限公司
京ICP備12027778號-2 北京市公安局備案：1101082052 京公網(wǎng)安備11010802012473