光刻系統(tǒng) 文章 最新資訊
EVG推出EVG620HBL光刻系統(tǒng)
- EVG在SEMICON China 2011展會期間推出EVG620HBL光刻系統(tǒng)。 這一全新的EVG620HBL全自動光刻系統(tǒng)以經(jīng)過實戰(zhàn)作業(yè)驗證的EVG光刻機平臺為基礎，旨在優(yōu)化高亮度發(fā)光二極管(HB - LED)、復合半導體和動力電子設備的生產(chǎn)制造。據(jù)悉，EVG620HBL增加了一個高強度紫外線光源和五個向盒裝卸臺，可以不間斷地制造設備。
- 關鍵字： EVG 光刻系統(tǒng)
EVG推出EVG620HBL光刻系統(tǒng)
- 世界領先的先進半導體與封裝、微機電系統(tǒng)、硅絕緣體(SOI)和新興納米技術市場晶圓鍵合與光刻設備應供應商EVG宣布，其產(chǎn)品組合中再添新成員。 這一全新的EVG620HBL全自動光刻系統(tǒng)以經(jīng)過實戰(zhàn)作業(yè)驗證的EVG光刻機平臺為基礎，旨在優(yōu)化高亮度發(fā)光二極管(HB - LED)、復合半導體和動力電子設備的生產(chǎn)制造。據(jù)悉，EVG620HBL增加了一個高強度紫外線光源和五個向盒裝卸臺，可以不間斷地制造設備。
- 關鍵字： EVG 光刻系統(tǒng)
Maskless Lithography推出用于大批量PCB生產(chǎn)的直寫光刻設備
- Maskless Lithography公司今天首次公開推出全新的可提高印制電路板(PCB) 生產(chǎn)門檻的直寫數(shù)字成像技術。這種MLI-2027直寫光刻系統(tǒng)首次在業(yè)內(nèi)同時實現(xiàn)高精度、高生產(chǎn)效率和高成品率，並采用標準的“非激光直接成像(Non-LDI)” 抗蝕劑。Maskless公司今天還宣布Sanmina-SCI公司通過在洛杉磯的工廠中對Maskless MLI-2027設備進行測試、驗證和認證后，購買了該公司的首臺產(chǎn)品。 “這臺設備的售出標志著我們五年的研發(fā)工
- 關鍵字： Maskless-Lithography PCB 光刻系統(tǒng) MLI-2027
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光刻系統(tǒng)介紹
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