日本a√视频在线,久久青青亚洲国产,亚洲一区欧美二区,免费g片在线观看网站

        <style id="k3y6c"><u id="k3y6c"></u></style>
        

        <s id="k3y6c"></s>
        <mark id="k3y6c"></mark>
          

          <mark id="k3y6c"></mark>
          


          
	
  	
          
	
          
		首頁　 
		資訊　 
		商機 　
		下載　 
		拆解 　
		高校　 
		招聘 　
		雜志　 
		會展　 
		EETV　 
		百科 　
		問答　 
		電路圖　 
		工程師手冊 　
		Datasheet　
		100例 　
		活動中心　 
		E周刊閱讀 　
		樣片申請
	
          




          
	EEPW首頁 >> 
	主題列表 >> 
	先進制程
          

          
	
          
    	
          
    	  	
          
              	
          
                	
          先進制程 文章
                  最新資訊  
                  
          
                
          
                                
          
                  

                                
          
                    
          先進制程推升算力需求 云端EDA帶來靈活彈性
          
                                                            
                                        
            
                    	
          • 而隨著芯片制程不斷縮小，單一芯片內(nèi)的晶體管與電路數(shù)量也持續(xù)倍增，芯片的生產(chǎn)流程也進入了新的時代，云端IC設(shè)計就是其中之一趨勢
            • 
                    	                        
          • 關(guān)鍵字：
                        先進制程  云端  EDA  Cadence  Mentor                          
            • 
                   	
          
                    
          
                
          
                                
          
                    
          邁向先進制程 PLD商機更加龐大
          
                                                            
            
                    	
          • 在過去的幾年間，整個半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)面臨著巨幅的衰退，然而，這個衰退現(xiàn)象卻為可編程邏輯組件(PLD)產(chǎn)業(yè)帶來了實質(zhì)的絕佳成長機會。雖然PLD公司之間的競爭仍然相當(dāng)激烈，但ASIC仍然是主要的競爭對手，如今，這種競爭現(xiàn)象
            • 
                    	                        
          • 關(guān)鍵字：
                        先進制程  PLD商機  龐大                          
            • 
                   	
          
                    
          
                
          
                                
          
                    
          明年資本支出 臺積將首超三星、英特爾
          
                                                            
                                        
            
                    	
          • 　　先進制程成為半導(dǎo)體巨擘兵家必爭之地，臺積電日前于法說會上初透口風(fēng)，表示明年資本支將約略高于100億美元，主要將用于16奈米制程的產(chǎn)能布建及10奈米的準(zhǔn)備工作。工研院產(chǎn)業(yè)經(jīng)濟與趨勢研究中心(IEK)則估，臺積電明年資本支出可望達到115億美元，超越英特爾、三星。
　　IEK分析，今年全球半導(dǎo)體廠商的資本支出估達643.6億美元、年增8.4%，其中三星、英特爾、臺積三強均超過百億美元。如此龐大的資本支出，即是由于在擴大產(chǎn)能之余，先進制程的研發(fā)投資成本亦跟著水漲船高。舉例來說，一條20奈米產(chǎn)線的投資金額就
            • 
                    	                        
          • 關(guān)鍵字：
                        臺積電  先進制程  英特爾                          
            • 
                   	
          
                    
          
                
          
                                                

                
          
	                
          
		                	
          
	
          
	共48條
	4/4		|‹
			«
														1																2																3																4								
	
          
		                
          
	               	
          
                
          
        	
          
            
          
        
          
	
          
	
          
  		
          
    		
          
      			
          
          			
          先進制程介紹
          
      			
          
		      	
          
		      			      			      	您好，目前還沒有人創(chuàng)建詞條先進制程!
           
		      	歡迎您創(chuàng)建該詞條，闡述對先進制程的理解，并與今后在此搜索先進制程的朋友們分享。    創(chuàng)建詞條
		      			      	
          
    		
          
  		
          
  		  		  		  		  		            
        		  		
          
    		
          
      			
          
        			
          熱門主題
          
      			
          
      			
          
       	          						樹莓派   
					linux   
      			
          
    		
          
  		
          
		
          
	
          
	
          

          

          
        		關(guān)于我們 - 
        		廣告服務(wù) - 
        		企業(yè)會員服務(wù) - 
        		網(wǎng)站地圖 - 
        		聯(lián)系我們 - 
        		征稿 - 
        		友情鏈接 - 
        		手機EEPW
        		
          
        		Copyright ?2000-2015 ELECTRONIC ENGINEERING & PRODUCT WORLD. All rights reserved.
          
        		《電子產(chǎn)品世界》雜志社 版權(quán)所有 北京東曉國際技術(shù)信息咨詢有限公司
          
      			備案 京ICP備12027778號-2 北京市公安局備案：1101082052    京公網(wǎng)安備11010802012473