化學(xué)沉積膜電阻器（chemically deposited film resistor）

　　化學(xué)沉積膜電阻器是用單純的化學(xué)反應(yīng)在基體上沉積一層電阻膜而制成（如鎳—磷合金膜電阻器）。它的工藝特點(diǎn)是將基體經(jīng)過(guò)敏化、活化處理后，再進(jìn)行化學(xué)沉積制成電阻膜，膜電阻為0.01歐/方~1兆歐/方。這種電阻器的優(yōu)點(diǎn)是生產(chǎn)效率高、設(shè)備簡(jiǎn)單，可以沉積任何形狀的基體。但重復(fù)性差，薄膜易受潮氣和電解腐蝕的影響，所以需要外加可靠的保護(hù)層。